[发明专利]紫外线吸收膜形成用涂布液和紫外线吸收玻璃物品

权利要求书

1.一种紫外线吸收膜形成用涂布液，含有氧化硅系基体原料成分、紫外线吸收剂、第一质子的pKa为1.0～5.0的酸和水，该氧化硅系基体原料成分由选自水解性硅化合物类中的至少1种构成。

2.根据权利要求1所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，以所述酸的第一质子完全离解时质子相对于涂布液总质量的摩尔浓度为0.005～5.0摩尔/kg的比例含有所述酸。

3.根据权利要求1或2所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述酸是选自乙酸、乳酸、马来酸、丙二酸和草酸中的至少1种。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，作为所述氧化硅系基体原料成分的主成分，含有可包含部分水解缩合物的4官能性水解性硅化合物，该涂布液还含有挠性赋予成分。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，作为所述氧化硅系基体原料成分的主成分，含有4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物，该4官能性水解性硅化合物和3官能性水解性硅化合物可包含各自的部分水解缩合物和/或两者的部分水解共缩合物。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述紫外线吸收剂为二苯甲酮系紫外线吸收剂。

7.根据权利要求6所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述二苯甲酮系紫外线吸收剂是含羟基的二苯甲酮系化合物与含环氧基的水解性硅化合物反应而得到的水解性硅化合物。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分100质量份，所述紫外线吸收剂的含量为1～50质量份。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分的SiO₂换算量，所述水的含量以摩尔比计为1～20当量。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，还含有二氧化硅微粒。

11.根据权利要求10所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，相对于所述氧化硅系基体原料成分100质量份，所述二氧化硅微粒的含量为0.5～50质量份。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液，其中，所述氧化硅系基体原料成分相对于涂布液总质量的含量，以将该成分所含的硅原子换算成SiO₂时的SiO₂含量计为1～20质量%。

13.一种紫外线吸收玻璃物品，具有玻璃基材和紫外线吸收膜，所述紫外线吸收膜是在所述玻璃基材的至少一部分表面使用权利要求1～12中任一项所述的紫外线吸收膜形成用涂布液而形成的。