[发明专利]在靶的背面具有沟的磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201180024211.3 | 申请日： | 2011-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN103080369A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 背面 具有 磁性材料 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁性材料溅射靶，其为厚度1~10mm的圆板状磁性材料溅射靶，其特征在于，
在该靶的背面具有至少一个宽度5~20mm、深度0.1~3.0mm、以该圆板状靶的中心为中心的圆沟，各沟的间隔为10mm以上，并且在所述沟中填入有热导率为20W/m·K以上的非磁性材料。
2.如权利要求1所述的磁性材料溅射靶，其特征在于，
所述沟的截面形状为U型、V型或凹型。
3.如权利要求1或2所述的磁性材料溅射靶，其特征在于，
所述沟中填入的非磁性材料为Ti、Cu、In、Al、Ag、Zn的单独金属或者以它们为主成分的合金。
4.如权利要求1至3中任一项所述的磁性材料溅射靶，其特征在于，
靶的饱和磁化密度大于2000G（高斯），并且最大导磁率μmax大于10。
5.如权利要求1至4中任一项所述的磁性材料溅射靶，其特征在于，
磁性材料靶包含选自Co、Fe、Ni或Gd的一种以上元素或者以它们为主成分的合金的强磁性材料。
6.一种磁性材料溅射靶，其特征在于，
其为在权利要求5所述的强磁性材料中分散有选自氧化物、碳化物、氮化物、碳氮化物和碳的一种以上非磁性材料的烧结体靶。
7.如权利要求5或6所述的磁性材料溅射靶，其特征在于，
含有0.5原子%以上且50原子%以下的选自Cr、B、Pt、Ru、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Mo、Ta、W和Si的一种以上元素。
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