[发明专利]一种用于溶剂纳滤和渗透汽化的亲有机物质的聚倍半硅氧烷膜

权利要求书

1.一种包括基于二氧化硅的层的疏水膜，其中，

-至少25%的硅原子具有桥连的C₁-C₁₂的二价的亚烃基基团作为取代基，以及任选地更多的硅原子可以具有单价的C₁-C₃₀的有机基团作为取代基，和

-二价的亚烃基基团具有8个碳原子的最短长度，或者单价的有机基团具有6个碳原子的最短长度，或两者兼有，和

-总的单价的有机基团和二价的亚烃基基团中碳原子的平均数至少为3.5。

2.根据权利要求1所述的膜，其中，至少30%的硅原子具有单价的C₆-C₂₄的烃基基团、优选具有单价的C₈-C₁₈的烃基基团。

3.根据权利要求1或2所述的膜，其中，所述单价和二价的基团都存在。

4.根据权利要求3所述的膜，其中，所述单价的基团和所述二价的基团的摩尔比在9:1至1:2之间。

5.根据权利要求3或4所述的膜，其中，所述单价的基团和所述二价的基团的碳原子的平均数至少为4，优选在4.5至12之间。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的膜，其中，所述层的厚度在20nm至2μm之间，优选在50nm至500nm之间。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的膜，其中，所述层为微孔的，并具有在0.4nm至2.0nm之间的平均孔径、优选具有在0.5nm至1.3nm之间的平均孔径。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的膜，其中，所述膜具有200-1000Da的截留值，优选具有300-800Da的截留值。

9.根据权利要求1-7中任意一项所述的膜，其中，所述膜具有200-400Da的截留值。

10.根据权利要求1-7中任意一项所述的膜，其中，所述膜具有400-600Da的截留值。

11.用于生产高醇浓度的醇/水混合物的生产装置，该生产装置包括：

(i)低级别的醇/水混合物的生产单元；

(ii)包括一个或多个根据权利要求1-10中任意一项所述膜的膜单元，所述膜单元用于提高醇/水混合物的醇浓度，所述生产单元与所述膜单元之间流体流通；以及任选地，

(iii)一个或多个用于从水中分离醇的进一步分离单元。

12.用于从低级别的醇/水混合物中纯化醇的纯化装置，该纯化装置包括：

(ii)包括一个或多个根据权利要求1-10中任意一项所述膜的膜单元；

(iii)用于从水中分离醇的进一步分离单元；所述膜单元与进一步分离单元在渗透侧之间流体流通。

13.根据权利要求11或12所述的装置，其中，所述醇为乙醇或丙醇，且(iii)包括精馏单元。

14.根据权利要求11或12所述的装置单元，其中，所述醇为丁醇或更高级链烷醇，且(iii)包括滗析器单元。

15.根据权利要求11-14中任意一项所述的装置，其中，（iii）包括能够通过选择性地保留醇而脱水的膜单元。

16.根据权利要求15所述的装置，其中，所述膜单元（iii）包括基于二氧化硅的层，其中，至少25%的硅原子具有桥连的C₁-C₁₂的二价的亚烃基基团作为取代基，以及任选地更多的硅原子可以具有单价的C₁-C₃₀的有机基团作为取代基，且总的在单价的烃基基团和二价的有机基团中碳原子的平均数低于3.5。

17.从相对疏水的组分和相对亲水的分子的混合物中选择性地保留相对亲水的分子的方法，该方法包括将所述混合物与根据权利要求1-10中任意一项所述的膜接触。