[发明专利]等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体流生成方法，以构成等离子体的物质的供应源为阴极，在所述阴极的前方或周围设置阳极，通过产生所述电弧放电，在所述阴极和所述阳极之间产生电弧等离子体，利用转动磁场产生在等离子体行进方向周围转动的等离子体流，所述等离子体流生成方法的特征在于，

把所述等离子体行进方向周围的等离子体的转动角区域分割成两个以上的区域，使各转动角区域中的等离子体的转动速度不同。

2.根据权利要求1所述的等离子体流生成方法，其特征在于，产生设于等离子体流动路径的X方向磁场，而且产生与所述X方向垂直的Y方向磁场，根据所述转动角区域使X方向磁场和/或Y方向磁场可变，使所述转动角区域中的等离子体的所述转动速度不同，生成描绘圆轨道、椭圆轨道或螺旋轨道的等离子体流。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体流生成方法，其特征在于，所述转动角区域分割成4n个区域，其中，n为正整数。

4.一种等离子体处理方法，其特征在于，向被处理物提供用权利要求1、2或3所述的等离子体流生成方法生成的等离子体流，进行等离子体处理。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理方法，其特征在于，在所述被处理物的内周部和外周部成膜时，利用具有所述转动速度不同的转动角区域的等离子体流，以所述内周部和所述外周部的膜厚不同的方式进行等离子体处理。

6.一种等离子体发生装置，以构成等离子体的物质的供应源为阴极，在所述阴极的前方或周围设置阳极，通过产生所述电弧放电，在所述阴极和所述阳极之间产生电弧等离子体，利用转动磁场使等离子体流在等离子体行进方向的周围转动，所述等离子体发生装置的特征在于，

把所述等离子体行进方向周围的等离子体的转动角区域分割成两个以上区域，使各转动角区域中的等离子体的转动速度不同。

7.根据权利要求6所述的等离子体发生装置，其特征在于包括：

X方向磁场产生构件，产生设于等离子体流动路径的X方向磁场；以及

Y方向磁场产生构件，产生与所述X方向垂直的Y方向磁场；

根据所述转动角区域，使X方向磁场和/或Y方向磁场可变，使所述转动角区域中的等离子体的所述转动速度不同，产生描绘圆轨道、椭圆轨道或螺旋轨道的等离子体流。

8.根据权利要求6或7所述的等离子体发生装置，其特征在于，所述转动角区域分割成4n个区域，其中，n为正整数。

9.一种等离子体处理装置，其特征在于包括：

权利要求6、7或8所述的等离子体发生装置；

等离子体输送管道，输送由所述等离子体发生装置产生的等离子体；以及

等离子体处理部，利用从所述等离子体输送管道提供的等离子体，对被处理物进行处理。

10.根据权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于，在所述被处理物的内周部和外周部成膜时，利用具有所述转动速度不同的转动角区域的等离子体流，使所述内周部和所述外周部的膜厚不同。