[发明专利]吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层有效
申请号: | 201180025510.9 | 申请日: | 2011-06-30 |
公开(公告)号: | CN102905785A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 金石基;徐荣成;尹景根 | 申请(专利权)人: | 可隆工业株式会社 |
主分类号: | B01J20/22 | 分类号: | B01J20/22;C07F5/00;H01L51/50;H01L31/042 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 黄丽娟;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吸收剂 以及 包含 用于 光学 元件 钝化 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于光学元件的吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层。
背景技术
一般而言,发光元件不需要外部光源,具有自行发光的功能。尤其是,发光元件具有比如高发光效率、优良的亮度和视角以及迅速的响应速度的优点,但是其缺点在于,因为大气中的水或氧进入发光元件内部,使得电极被氧化或元件本身发生劣化,所以该发光元件寿命缩短。为此,进行各方面的研究以制造对于水和氧稳定的发光元件。
另一方面,有机EL元件的问题在于,当有机EL元件运行一定时间时,发光性能,例如发光亮度、发光效率以及发光均匀性与初始阶段相比,显著变差。例如,如上所述的发光性能变差的原因包括:因渗入有机EL元件内部的氧而导致的电极氧化,在运行期间由发热引起的有机材料的氧化降解,以及有机材料的变性。另外,发光性能变差的原因还包括结构的机械性退化,例如,由水和氧引起的结构的界面剥离,而且因为各组分的热膨胀系数之间的不同在运行期间由于热量产生以及高温环境而导致在结构的界面上引起应力产生,从而发生结构的界面剥离。
为了防止上述问题,研究了多种用于密封有机EL元件的技术以防止与水和氧接触。例如,如图1所示,存在一种防止水到达有机EL元件的方法,包括:在具有包括基板1和在基板1上形成的透明电极3、有机功能层4以及金属阴极电极5的有机EL元件的像素区域(picture element area)上,安置密封盖2,在该密封盖2中吸收剂6粘着于内壁上;在其内部填充氮气9;以及使用粘合剂7将密封盖2固定于基板1上。
此时,正研究多种物质作为吸收剂,但是例如氧化钡(BaO)或氧化钙(CaO)的碱土金属氧化物,因为它们与物理地吸收水的吸水剂(如硅胶或沸石)不同,它们能可靠地捕获水分子,并且在高温下也不会释放出水分子,因此被广泛地研究。
然而,上述吸水剂存在以下缺点:这些吸水剂是无机化合物粒子,并且为了粘着在元件内部,需要凹面的基板,使得所制成的元件变厚。此外,碱土金属氧化物不透明,从而其可以应用于向基板1发射显示光的所谓的底发光显示器元件。但是,当碱土金属氧化物应用于所谓的顶发光显示器元件时,顶发光显示器元件向密封盖2(密封盖2是基板1的另一侧)发射显示光,吸收剂6可能会阻挡发光,从而应该将吸收剂6定位以不进入图像区域,而应提供安置位置。
为了将吸收剂应用于顶发光显示器元件,例如,可能容易想到将透明并具有吸水性能的聚合物(比如聚乙烯醇和尼龙)用作吸收剂。但是,上述聚合物物理地吸收水,并且不具有如上所述的充分的吸水性能。
此外,日本公开专利No.2001-357973披露了使用微粒吸水剂,该微粒吸水剂被定位成在顶发光结构中对光透射性没有产生不利影响;日本公开专利No.2002-56970公开了使用塑料基板,该塑料基板含有粒度小于有机EL元件的发光波长的分散的吸水剂。但是,无机粒子作为第一粒子难于设置并均匀分散,从而不可避免因光散射而导致透射率降低。
另外,采用通过使用活性溶剂(例如甲苯)合成的化合物所制得的吸收剂缺点在于,该活性溶剂少量残留在光学元件中而导致例如暗点、收缩等现象,阻碍发光性能。
发明内容
技术问题
因此,本发明提供一种吸收剂以及包含该吸收剂的用于光学元件的钝化层,其中该吸收剂用于阻挡水分进入到光学元件中,从而使该光学元件的损伤最小化,因此该光学元件能够长期保持其发光性能。
此外,本发明提供一种光学元件,该光学元件包括所述吸收剂和所述用于光学元件的钝化层。
技术方案
为此,本发明第一优选的实施方案提供包含使用惰性溶剂制备的由下面化学式1表示的化合物的吸收剂:
[化学式1]
其中,所有R1彼此可以是相同或不同的基团,选自C数为至少10的烷基、环烷基和芳基中;M选自三价金属中;以及X是1~1000的整数。
根据上述实施方案的惰性溶剂可以是选自饱和烃化合物、硅油、液体芳香族石油烃树脂、聚异丁烯、液体聚丁烯和蜡(液体石蜡)中的至少一种。
根据上述实施方案的吸收剂,在550nm下测得的透光率可以为至少50%。
本发明第二优选的实施方案提供一种用于光学元件的钝化层,包含使用惰性溶剂制备的由下面化学式1表示的化合物:
[化学式1]
其中,所有R1彼此可以是相同或不同的基团,选自C数为至少10的烷基、环烷基和芳基中;M选自三价金属中;以及X是1~1000的整数。
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