[发明专利]光电子器件和用于制造光电子器件和复合结构的方法有效
申请号: | 201180026305.4 | 申请日: | 2011-05-04 |
公开(公告)号: | CN102918669A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
发明(设计)人: | 哈拉尔德·雅格;迈克尔·齐茨尔斯佩格;艾伯特·施奈德 | 申请(专利权)人: | 欧司朗光电半导体有限公司 |
主分类号: | H01L33/60 | 分类号: | H01L33/60 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;田军锋 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电子 器件 用于 制造 复合 结构 方法 | ||
1.光电子器件(10),所述光电子器件具有:壳体(1);设置在所述壳体(1)中的半导体芯片(2);和浇注料(3),其中
-所述半导体芯片(2)具有适合于产生和检测电磁辐射的有源层,
-所述浇注料(3)至少局部地包围所述半导体芯片(2),并且
-在所述浇注料(3)中嵌入反射颗粒(3a)。
2.根据权利要求1所述的光电子器件,其中
-所述壳体(1)具有空腔(4),在所述空腔的基面处设置有导线框(5a、5b),在所述导线框处设置有所述半导体芯片(2),并且
-将所述浇注料(3)引入到所述空腔(4)中。
3.根据上述权利要求之一所述的光电子器件,其中在所述浇注料(3)上设置有覆盖层(6)。
4.根据权利要求3所述的光电子器件,其中在所述覆盖层(6)中嵌入至少一种转换材料,并且/或者所述覆盖层(6)构造为透镜。
5.根据权利要求3或4所述的光电子器件,其中热膨胀系数从壳体(1)到浇注料(3)到覆盖层(6)逐步地提高。
6.根据上述权利要求之一所述的光电子器件,其中所述半导体芯片(2)沿竖直方向从所述浇注料(3)中伸出。
7.根据上述权利要求2至6之一所述的光电子器件,其中所述覆盖层(6)直接地邻接于所述浇注料(3)。
8.根据权利要求6或7所述的光电子器件,其中所述半导体芯片(2)沿竖直方向伸入到所述覆盖层(6)中。
9.根据上述权利要求之一所述的光电子器件,其中所述壳体(1)包含PPA或者环氧化物。
10.根据上述权利要求之一所述的光电子器件,其中所述覆盖层(6)和/或所述浇注料(3)包含硅树脂或者混合材料。
11.用于制造根据上述权利要求之一所述的光电子器件(10)的方法,其中借助于喷射压铸方法或者喷射铸造方法制造所述壳体(1)。
12.根据权利要求11所述的方法,其中通过将所述壳体(1)至少部分地在模具中硬化来借助于所述模具进行所述壳体(1)的成型,所述模具具有封闭的形状。
13.根据权利要求11或12所述的方法,其中将所述浇注料(3)引入到所述壳体(1)中,使得所述半导体芯片(2)沿竖直方向突出于所述浇注料(3)。
14.根据权利要求13所述的方法,其中将覆盖层(6)施加到所述浇注料(3)上,所述半导体芯片(2)伸入到所述覆盖层中。
15.用于制造由多个根据上述权利要求1至10之一所述的器件组成的复合结构的方法,其中
-所述壳体(1)具有多个空腔(4),将至少一个半导体芯片(2)分别施加到所述空腔的基面处,
-将具有反射颗粒的浇注料(3)引入到所述空腔(4)中,并且
-接下来,将所述壳体(1)分离成各个器件(10),使得每个单独的器件(10)具有至少一个半导体芯片(2)。
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