[发明专利]改善气流的喷头支撑结构

权利要求书

1.一种用于真空腔室的气体分配喷头，所述气体分配喷头包含：

主体，所述主体具有第一侧与第二侧以及多个气体通道，所述第二侧与所述第一侧相对，所述多个气体通道形成为穿过所述主体，所述气体通道包含形成在所述第一侧中的第一孔洞，所述第一孔洞通过限缩孔口流体地耦接到第二孔洞，所述第二孔洞形成在所述第二侧中；及

悬置特征结构，所述悬置特征结构形成在所述气体通道中至少一个的所述第一孔洞中。

2.如权利要求1所述的气体分配喷头，其特征在于，所述气体分配喷头进一步包含：

悬置配件，所述悬置配件设置在所述悬置特征结构中。

3.如权利要求2所述的气体分配喷头，其特征在于，所述气体分配喷头进一步包含：

替代气体通道，所述替代气体通道与一容积流体连通，所述容积设置在所述气体分配喷头的所述第一侧上，所述替代气体通道将气流提供到形成在所述气体分配喷头的所述主体中的所述限缩孔口。

4.如权利要求3所述的气体分配喷头，其特征在于，所述替代气体通道包含横向定向孔洞，所述横向定向孔洞形成在所述气体分配喷头的所述主体中。

5.如权利要求4所述的气体分配喷头，其特征在于，所述孔洞形成为相对于水平面呈角度，所述水平面由所述气体分配喷头的表面界定。

6.如权利要求4所述的气体分配喷头，其特征在于，所述孔洞至少部分地延伸通过一个或多个邻近的气体通道。

7.如权利要求4所述的气体分配喷头，其特征在于，所述孔洞终止在所述限缩孔洞上游的位置处。

8.如权利要求3所述的气体分配喷头，其特征在于，所述替代气体通道是至少部分地形成在所述悬置配件中的纵向孔洞。

9.如权利要求8所述的气体分配喷头，其特征在于，所述悬置配件包含支撑主体，所述支撑主体在所述支撑主体的第一端处具有螺纹化部分，所述螺纹化部分界定阳匹配界面。

10.如权利要求9所述的气体分配喷头，其特征在于，所述悬置配件进一步包含：

沟槽化容室，所述沟槽化容室位于所述支撑主体的第二端处，从而界定阴界面。

11.一种用于真空腔室的气体分配喷头，所述气体分配喷头包含：

主体，所述主体具有第一侧与第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对，所述主体具有形成在所述第一侧与所述第二侧之间的多个气体通道，所述多个气体通道中的每一个具有第一孔洞，所述第一孔洞形成在所述第一侧中，所述第一孔洞通过限缩孔口流体地耦接到第二孔洞，所述第二孔洞形成在所述第二侧中；

悬置配件，所述悬置配件设置在所述多个气体通道中至少一个的所述第一孔洞中，从而形成堵塞的气体通道；及

替代气体通道，所述替代气体通道与介于所述背板与所述气体分配喷头的所述第一侧之间的容积流体连通，以将气流提供到所述堵塞的气体通道。

12.如权利要求11所述的气体分配喷头，其特征在于，所述替代气体通道是至少部分地形成在所述悬置配件中的纵向孔洞。

13.如权利要求12所述的气体分配喷头，其特征在于，所述悬置配件包含：支撑主体，所述支撑主体在所述支撑主体的第一端处具有螺纹化部分，从而界定阳匹配界面；和沟槽化容室，所述沟槽化容室位于所述支撑主体的第二端处，从而界定阴界面。

14.如权利要求12所述的气体分配喷头，其特征在于，所述纵向孔洞包含中心开口，所述中心开口具有第一直径，所述中心开口耦接到具有第二直径的锥形化孔洞，所述第二直径小于所述第一直径。

15.如权利要求11所述的气体分配喷头，其特征在于，所述替代气体通道包含横向定向孔洞，所述横向定向孔洞以相对于水平面呈角度的方式形成在所述主体中，所述水平面由所述气体分配喷头的表面确定。

16.如权利要求15所述的气体分配喷头，其特征在于，所述孔洞至少部分地延伸通过一个或多个邻近的气体通道。

17.如权利要求16所述的气体分配喷头，其特征在于，所述孔洞终止在所述限缩孔口上游的位置处。