[发明专利]用于物理气相沉积的腔室有效

专利信息
申请号: 201180026737.5 申请日: 2011-05-11
公开(公告)号: CN102918622A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: R·欣特舒斯特;L·利珀特 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/34 分类号: H01J37/34;C23C14/35;C23C14/34;H01L21/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡林岭;刘佳
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 物理 沉积
【权利要求书】:

1.一种用于物理气相沉积的腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000),包含:

外壳(210;310;410;510;610;710;910;1010);

腔门(220;320;420;520;620;720;920;1020;1100;1220),用于开启及关闭所述外壳;以及

轴承(240;340;440;540;640;740;1140;1240),用于容置靶材(230),所述轴承位于第一方向(260)中;

其中所述腔室适于使得在所述第一方向中使所述靶材至少部分移除于所述腔室外。

2.如权利要求1所述的腔室,其中所述腔室的轴承侧在实质垂直于所述第一方向(260)的第二方向(270)中具有比所述轴承侧的相对侧更大的延伸部。

3.如权利要求1所述的腔室,其中所述外壳(510)于轴承侧的相对侧处包含至少一靶材孔(480),所述靶材孔具有至少为所述靶材(230)的截面积的大小。

4.如权利要求3所述的腔室,其中所述外壳(510)与所述腔门(520)具有重迭部分,且所述腔门将所述外壳的所述靶材孔(480)锁上。

5.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述轴承(640;740;1140;1240)位于所述腔门中。

6.一种用于物理气相沉积的腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000),用于容置至少一靶材(230)与基板,所述腔室包含:

外壳(210;310;410;510;610;710;910;1010);

腔门(220;320;420;520;620;720;920;1020;1100;1220),用以开启及关闭所述腔室;以及

至少一轴承(240;340;440;540;640;740;1140;1240),用于固定靶材,其中所述轴承装设至所述腔门。

7.如权利要求6所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)还包含轴承侧,所述轴承侧包含所述至少一轴承(240;340;440;540;640;740;1140;1240),且其中所述靶材(230)可于所述腔室的第一方向(260)中从所述腔室移除,所述第一方向从所述腔室的所述轴承侧运行至所述轴承侧的相对侧。

8.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔门(220;320;420;520;620;720;920;1020;1100;1220)的形状实质上相对于所述第一方向(260)而对称,且相对于实质上垂直于所述第一方向的第二方向(270)而呈非对称。

9.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述外壳(210;310;410;510;610;710;910;1010)的形状实质上相对于所述第一方向(260)而对称,且相对于实质上垂直于所述第一方向的第二方向(270)而呈非对称。

10.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)包含一个以上的腔门。

11.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)是用于溅射工艺的腔室。

12.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)适于旋转靶材。

13.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)还包含驱动单元(360;760),用于驱动靶材。

14.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述至少一轴承(240;340;440;540;640;740;1140)适于容置溅射阴极。

15.如前述各项权利要求中任一项所述的腔室,其中所述腔室(200;300;400;500;600;700;900;1000)适于大于约1.5m的基板。

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