[发明专利]杂质扩散层形成组合物、杂质扩散层的制造方法、以及太阳能电池元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 201180027116.9 申请日: 2011-07-05
公开(公告)号: CN102934205A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 足立修一郎;吉田诚人;野尻刚;冈庭香;町井洋一;岩室光则;佐藤铁也;木泽桂子 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: H01L21/225 分类号: H01L21/225;C03C8/18;H01L31/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 杂质 扩散 形成 组合 制造 方法 以及 太阳能电池 元件
【权利要求书】:

1.一种杂质扩散层形成组合物,其含有:含供体元素或受体元素的玻璃粉末、重均分子量为5000以上且500000以下的粘结剂、以及溶剂。

2.一种n型扩散层形成组合物,其含有:含供体元素的玻璃粉末、重均分子量为5000以上且500000以下的粘结剂、以及溶剂。

3.根据权利要求2所述的n型扩散层形成组合物,其中,所述玻璃粉末含有玻璃成分物质和含供体元素的物质,所述含供体元素的物质的含有比率相对于该玻璃粉末为1质量%以上且75质量%以下。

4.根据权利要求2或3所述的n型扩散层形成组合物,其在25℃下的pH值为2~13的范围。

5.根据权利要求2~4中任一项所述的n型扩散层形成组合物,其中,所述供体元素为选自磷P及锑Sb中的至少1种。

6.根据权利要求2~5中任一项所述的n型扩散层形成组合物,其中,所述含供体元素的玻璃粉末含有:选自P2O3、P2O5及Sb2O3中的至少1种含供体元素的物质和选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、SnO、ZrO2、及MoO3中的至少1种玻璃成分物质。

7.根据权利要求2~6中任一项所述的n型扩散层形成组合物,其还含有选自Ag、Si、Cu、Fe、Zn及Mn中的至少1种金属。

8.根据权利要求7所述的n型扩散层形成组合物,其中,所述金属为银Ag。

9.一种n型扩散层的制造方法,其具有:在半导体基板上涂布权利要求2~8中任一项所述的n型扩散层形成组合物的工序;以及实施热扩散处理的工序。

10.一种太阳能电池元件的制造方法,其具有:在半导体基板上涂布权利要求2~8中任一项所述的n型扩散层形成组合物的工序;实施热扩散处理而形成n型扩散层的工序;以及在所形成的n型扩散层上形成电极的工序。

11.一种p型扩散层形成组合物,其含有:含受体元素的玻璃粉末、重均分子量为5000以上且500000以下的粘结剂、以及溶剂。

12.根据权利要求11所述的p型扩散层形成组合物,其中,所述玻璃粉末含有玻璃成分物质和含受体元素的物质,所述含受体元素的物质在该玻璃粉末中的含有比率为1质量%以上且90质量%以下。

13.根据权利要求11或12所述的p型扩散层形成组合物,其在25℃下的pH值为2~13的范围。

14.根据权利要求11~13中任一项所述的p型扩散层形成组合物,其中,所述受体元素为选自硼B、铝Al及镓Ga中的至少1种。

15.根据权利要求11~14中任一项所述的p型扩散层形成组合物,其中,所述含有受体元素的玻璃粉末含有:选自B2O3、Al2O3及Ga2O3中的至少1种含受体元素的物质和选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、Tl2O、SnO、ZrO2、及MoO3中的至少1种玻璃成分物质。

16.一种p型扩散层的制造方法,其具有:在半导体基板上涂布权利要求11~15中任一项所述的p型扩散层形成组合物的工序;以及实施热扩散处理的工序。

17.一种太阳能电池元件的制造方法,其具有:在半导体基板上涂布权利要求11~15中任一项所述的p型扩散层形成组合物的工序;实施热扩散处理而形成p型扩散层的工序;以及在所形成的p型扩散层上形成电极的工序。

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