[发明专利]抗反射涂料组合物和制造微电子器件的方法有效
申请号: | 201180027257.0 | 申请日: | 2011-06-01 |
公开(公告)号: | CN102939549A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | 姚晖蓉;殷建;林观阳;M·O·奈塞尔;D·J·阿卜杜拉 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料美国公司 |
主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04;G02B1/10;G03F7/09;G03F7/004 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 孙悦 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 涂料 组合 制造 微电子 器件 方法 | ||
1.一种抗反射涂料,其包含第一聚合物和第二聚合物的混合物以及热酸产生剂,其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分、至少一个脂肪族羟基部分和至少一个不同于氟代醇的pKa范围在约8-约11的酸部分;其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基的化合物的反应产物。
2.权利要求1的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物进一步包含芳香基。
3.权利要求1或2的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物类型具有结构(1)
(-P1-)u(-P2-)v(-P3-)w(-P4)x(-P5-)y(I)
其中,P1是包含氟代醇部分的单体单元,P2是包含脂肪醇基团的单体单元;P3是包含酰亚胺部分的单体单元;P4是包含碱性可电离的芳基羟基部分的单体单元;P5是包含芳基发色团部分的任选的单体重复单元;u、v、w、x、y是聚合物链中重复单元的摩尔%比例,和其中u、v大于0,w和x中的至少一个大于0,和y为0或更大。
4.权利要求1-3中任意一项的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物包含的氟代醇基团是结构(2)的单元
其中,X是烯键单元或取代的烯键单元,W选自亚烷基和亚芳基,和Rf1与Rf2独立地是氟代(C1-C4)烷基。
5.权利要求1-4中任意一项的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物包含的酰亚胺部分是结构(8)或(9)的单元
其中,R1、R2和R3独立地选自氢和(C1-C4)烷基,R”4是直链(C1-C10)烷基或(C6-C14)芳基部分,和R8是直接价键或(C1-C10)亚烷基间隔基团。
6.权利要求1-5中任意一项的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物包含的脂肪族羟基部分是结构(7)的单元
其中,R1、R2和R3独立地选自氢和(C1-C4)烷基,独立地选自氢和(C1-C4)烷基,R4是氢或(C1-C10)烷基,和R9选自直接价键和(C1-C12)烷基间隔基团。
7.权利要求1-6任意一项的抗反射涂料组合物,其中第一聚合物包含的芳香族羟基部分是结构(10a)或(10b)的单元,
其中,Ar是芳基部分,其中R1、R2和R3独立地选自氢和(C1-C4)烷基,R4是(C1-C10)烷基或(C6-C14)芳基部分,R5是直接价键或间隔基团,R6和R7独立地选自氢、(C1-C10)烷基、芳基部分(C6-C14)、(C2-C8)羰氧基烷基和(C2-C8)羰基,n=1至3。
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