[发明专利]用于形成溅射材料层的系统和方法

权利要求书

1.一种涂覆衬底(110)的方法，所述方法包括以下步骤：

在所述衬底(110)上形成溅射材料层(806)，其中形成所述溅射材料层的步骤包括以下步骤：

将来自至少一个可旋转靶材(120’)的材料溅射在所述衬底(110)上；以及

改变所述至少一个可旋转靶材(120’)与所述衬底(110)之间的相对位置。

2.根据权利要求1所述的涂覆衬底的方法，其中改变的步骤包括以下步骤：

将所述至少一个可旋转靶材(120’)与所述衬底(110)之间的所述相对位置改变到第一位置(I)，所述第一位置被维持预定的第一时间间隔；以及

将所述至少一个可旋转靶材与所述衬底之间的所述相对位置改变到第二位置(II)，所述第二位置被维持预定的第二时间间隔；

其中所述预定的第一时间间隔和所述预定的第二时间间隔中至少一者可选地为至少0.1秒、优选地至少0.5秒、甚至更优选地至少1秒。

3.根据前面的权利要求中任一项所述的涂覆方法，其中所述至少一个可旋转靶材(120’)是可旋转靶材阵列。

4.根据前面的权利要求中任一项所述的涂覆方法，还包括以下步骤：

向阴极组件(310、502)提供电压，所述阴极组件关联到所述可旋转靶材(120’、120”)，

其中改变所述相对位置的步骤包括将所述相对位置从所述第一位置改变到所述第二位置，当所述相对位置对应于所述第一位置或所述第二位置时的所述电压高于当所述相对位置对应于在所述第一位置与所述第二位置之间的位置时的所述电压。

5.根据权利要求4所述的涂覆方法，其中当所述相对位置对应于在所述第一位置和所述第二位置之间的位置时所述电压基本为零，和/或所述电压在所述相对位置的改变期间根据方波波形随时间变化。

6.根据前面的权利要求中任一项所述的涂覆方法，其中所述相对位置被改变以使得所述溅射材料层形成为具有至少±10％、优选地至少±5％、甚至更优选地至少±1％的厚度均匀性。

7.根据前面的权利要求中任一项所述的涂覆方法，其中改变所述相对位置的步骤包括沿着与所述衬底的表面基本平行的平面、相对于所述至少一个可旋转靶材(120)移动所述衬底(110)，其中所述溅射材料层形成在所述衬底上。

8.根据前面的权利要求中任一项所述的涂覆方法，其中所述可旋转靶材是绕所述可旋转靶材的圆柱对称轴可旋转的大致圆柱体靶材(120’)。

9.一种用于涂覆衬底(110)的方法，所述方法包括以下步骤：

在所述衬底(110)上形成溅射材料层，其中形成所述溅射材料层的步骤包括以下步骤：

将来自至少一个靶材(120；120’；120”)的材料溅射在所述衬底上；以及

通过改变所述至少一个靶材与所述衬底之间的距离，来改变所述至少一个靶材与所述衬底(110)之间的相对位置。

10.根据前面的权利要求中任一项所述的方法，其中，溅射来自所述至少一个靶材(120)的材料的步骤包括叠加至少两个膜分布(802、804)，其中可选地所述至少两个膜分布(802、804)是基本互补的。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中，溅射材料的步骤由可旋转靶材或多个优选的可旋转靶材(120a’、120b’、120c’、120d’、120e’、120f’、120a”、120b”、120c”、120d”)进行，其中所述可旋转靶材或所述多个优选的可旋转靶材被布置成使得所述至少两个膜分布以大致正弦的形式成形。

12.一种用于涂覆衬底的系统，所述系统包括至少一个可旋转靶材(120’)，所述至少一个可旋转靶材用于在所述衬底(110)上溅射材料，其中所述至少一个可旋转靶材(120’)构造成在所述衬底(110)的涂覆期间运动以使得所述至少一个可旋转靶材(120)与所述衬底(110)之间的相对位置改变。

13.根据权利要求12所述的用于涂覆衬底的系统，其中所述至少一个可旋转靶材(120’)是可旋转靶材(120a’、120b’、120c’、120d’、120e’、120f’)的阵列。