[发明专利]滚筒模具的制作装置以及制作方法有效

专利信息
申请号: 201180028829.7 申请日: 2011-06-08
公开(公告)号: CN103003055A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 伊藤直人;北田敏夫;木口屋秀成 申请(专利权)人: 旭化成株式会社
主分类号: B29C59/04 分类号: B29C59/04;B29C33/38;G03F7/20
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 肖华
地址: 日本大阪府大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 滚筒 模具 制作 装置 以及 制作方法
【权利要求书】:

1.一种滚筒模具的制作装置,其是制作滚筒模具的装置,所述滚筒模具是用于转印图案的滚筒状的压模,

所述滚筒模具的制作装置的特征在于,包括:

电子束照射装置,所述电子束照射装置对涂敷有抗蚀剂的所述滚筒模具照射电子束;

掩模,所述掩模具有使从该电子束照射装置照射的电子束的一部分透过的开口部,以形成同时在所述抗蚀剂上进行描画的多束电子束;

旋转驱动装置,所述旋转驱动装置使所述滚筒模具绕旋转轴旋转;

位移量检测传感器,在通过该旋转驱动装置进行旋转时,所述位移量检测传感器对所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测;

控制装置,所述控制装置接收该位移量检测传感器的检测信号,发送用于使所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动的控制信号;以及

致动器,所述致动器根据来自该控制装置的控制信号使得所述电子束的描画位置与所述滚筒模具的向旋转轴方向的位移随动,

所述滚筒模具的制作装置抑制由所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移所导致的所述抗蚀剂的曝光位置的偏差。

2.如权利要求1所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,

所述掩模的开口部用来使透过后的所述电子束成为多束平行光。

3.如权利要求1或2所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,

所述致动器用来使所述掩模向旋转轴方向移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,

所述位移量检测传感器对所述旋转轴的端面的向所述旋转轴方向的位移量进行检测。

5.如权利要求4所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,

所述位移量检测传感器对所述旋转轴的端面的旋转中心部分的位移量进行检测。

6.如权利要求1至5中任一项所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,

所述致动器是压电致动器。

7.一种滚筒模具的制作方法,其是制作滚筒模具的方法,所述滚筒模具是用于转印图案的滚筒状的压模,

所述滚筒模具的制作方法的特征在于,

使从电子束照射装置照射的电子束透过形成有开口部的掩模,以使其成为同时在所述抗蚀剂上进行描画的多束电子束,

使得涂敷有抗蚀剂的所述滚筒模具绕旋转轴旋转,对该滚筒模具照射透过了所述掩模的电子束,

对旋转时的所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测,

根据该检测信号使得所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动。

8.如权利要求7所述的滚筒模具的制作方法,其特征在于,

使得透过所述掩模的开口部后的所述电子束成为多束平行光。

9.如权利要求8或9所述的滚筒模具的制作方法,其特征在于,

通过致动器使得所述掩模向旋转轴方向移动,使得所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置与该滚筒模具随动。

10.如权利要求7至9中任一项所述的滚筒模具的制作方法,其特征在于,

通过对所述旋转轴的端面向所述旋转轴方向的位移量进行检测,来对所述滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆位移量进行检测。

11.如权利要求10所述的滚筒模具的制作方法,其特征在于,

对所述旋转轴的端面的旋转中心部分的位移量进行检测。

12.如权利要求1所述的滚筒模具的制作装置,其特征在于,还包括:

能够用作不受温度变化影响的系统的绝对系统;

将该绝对系统作为标准对所述掩模的位置进行测量的掩模位置测量传感器;以及

将所述绝对系统作为标准对所述滚筒模具的位置进行测量的滚筒模具位置测量传感器,

所述控制装置接收所述滚筒模具位置测量传感器以及所述掩模位置测量传感器的测量信号,发送用于使所述电子束在所述滚筒模具的所述抗蚀剂上的描画位置的偏差最小化的控制信号,

所述致动器根据来自该控制装置的控制信号使得所述滚筒模具以及所述掩模中的至少一方挪动,从而使得所述电子束的描画位置被移动。

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