[发明专利]涂覆表面的方法和设备

权利要求书

1.利用分子涂覆载体材料的表面的方法，其中来自分子储存器的分子被转变为气态并电离，其中带电分子在电场中经历沿表面方向的定向运动，并且其中所述分子碰撞所述表面并在那里被吸收，其特征在于所述带电分子（5，6）在达到所述表面（1）的途中，被暴露于至少一个电场和/或磁场，所述电场和/或磁场具有至少一个与所述带电分子（5，6）定向运动方向垂直的场分量，以便向所述带电分子（5，6）施加力的导向作用，所述导向作用与所述带电分子（5，6）的定向运动方向垂直。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于电和/或磁聚焦装置（8）作用于所述带电分子（5，6）在所述分子储存器（3，4）和所述表面（1）之间的定向运动。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于隔膜装置（12）以这样的方式布置在所述分子储存器（3，4）和所述表面（1）之间，所述方式使得仅具有指定的质荷比的分子（5，6）通过所述隔膜装置（12）到达所述表面（1）。

4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的方法，其特征在于至少一个四极场（17，19）作用于所述带电分子（5，6）在所述分子储存器（3，4）和所述表面（1）之间的定向运动。

5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的方法，其特征在于，在从所述分子储存器（3，4）至所述表面（1）运动期间，借助于可随时间变化的电场和/或磁场使所述带电分子（5，6）偏转。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于在运动到所述表面（1）期间借助于两对偏转电容器使所述带电分子（5，6）偏转。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于使通过所述两对偏转电容器产生的电场基本上彼此垂直排列，并与所述带电分子（5，6）的定向运动方向垂直。

8.根据权利要求1至7中的一项或多项所述的方法，其特征在于借助于合适的电场和/或磁场或借助于可随时间变化的隔膜装置（14），防止所述带电分子（5，6）在指定的时间内撞击所述表面（1）。

9.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于待涂覆的表面积被给予与所述带电分子（5，6）相反的电荷，并且非待处理的表面积被给予同种电荷，之后开始涂覆。

10.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于在所述表面（1）前面的区域中，产生与所述带电分子（5，6）运动方向相反的电场，并且在撞击所述表面（1）之前使所述带电分子（5，6）减速。

11.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于通过光电离或激光诱导双光子吸收来电离所述分子储存器（3）的被转变为气态的分子（5）。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于间歇地或以脉冲方式进行所述分子储存器（3）的分子（5）的光电离。

13.根据权利要求1至12中的一项或多项所述的方法，其特征在于来自至少两个不同的分子存储器（3，4）的分子（5，6）被连续地或交替地转化为气体状态，并用于涂覆所述表面（1）。

14.用于利用分子涂覆载体材料表面的设备，其具有用于分子储存的储存设备，具有用于从所述分子储存器蒸发和电离分子的设备，具有用于产生静电加速场的设备，所述静电加速场用于产生所述带电分子在所述表面上定向的运动，并且具有用于载体材料的夹持器，所述载体材料具有待涂覆的表面，其特征在于用于产生电场和/或磁场的设备（11）布置在所述涂覆设备中，所述电场和/或磁场具有作用于所述运动、与所述带电分子（5，6）的运动方向垂直的场分量。

15.根据权利要求14所述的涂覆设备，其特征在于所述涂覆设备具有电和/或磁聚焦装置（8）。

16.根据权利要求14或15所述的涂覆设备，其特征在于所述涂覆设备具有至少一个用于产生四极场（17，19）的设备。

17.根据权利要求14至16中的一项所述的涂覆设备，其特征在于所述涂覆设备具有隔膜装置（12）。

18.根据权利要求14至17中的一项所述的涂覆设备，其特征在于所述涂覆设备具有用于产生电和/或磁偏转场的设备（13），所述场可随时间变化，用于包含带电分子（5，6）的分子离子束（9，10）的靶向偏转。

19.根据权利要求14至18中的一项所述的涂覆设备，其特征在于所述涂覆设备具有光电离设备。