[发明专利]用于填充超导磁体的方法与装置

权利要求书

1.一种用于填充磁体的方法，包括：

将气态氦馈送到经液化的氦的容器；

将经液化的氦馈送到所述磁体；

测量来自所述容器的所述气态氦的流速，并且测量所述容器中的所述气态氦的压力；以及

当测得的压力达到一峰值并开始下降时，使所述经液化的氦的流动停止。

2.一种用于使填充过程停止的方法，包括：

将气态氦馈送到经液化的氦的容器；

将经液化的氦馈送到磁体；

测量所述气态氦的流速；

测量在杜瓦真空瓶中的所述气态氦的压力；以及

当所述测得的压力达到一峰值并开始下降时，使所述经液化的氦的流动停止。

3.一种用于检测液氦从杜瓦真空瓶到超导磁体的低温恒温器的缓慢转移的方法，包括：

将气态氦馈送到经液化的氦的容器；

将经液化的氦馈送到所述磁体；

测量来自所述容器的所述气态氦的流速，并且测量从所述容器中推出来的经液化的氦的量；以及

当气态氦的流速与从所述容器中推出来的经液化的氦的量之比不同于6比1或7比1时，使所述气态氦的流动停止。

4.如上述权利要求1到3之一所述的方法，其特征在于，

所述容器是杜瓦真空瓶，并且

所述气态氦较佳地被馈送到所述杜瓦真空瓶的顶部。

5.如上述权利要求1到4之一所述的方法，其特征在于，

所述测得的压力是在所述杜瓦真空瓶中测得的。

6.如上述权利要求1到5之一所述的方法，其特征在于，

所述经液化的氦的流动是通过所述气态氦的流动而进行控制的。

7.如上述权利要求1到6之一所述的方法，其特征在于，

通过使气态氦的流动停止，使所述经液化的氦的流动停止。

8.如上述权利要求1到7之一所述的方法，其特征在于，

所述磁体是超导磁体。

9.如上述权利要求1到8之一所述的方法，其特征在于，

所述经液化的氦的流动是用流量计进行测量的。

10.如上述权利要求1到9之一所述的方法，其特征在于，

所述峰值压力是通过控制单元进行测量的。

11.如上述权利要求3到10之一所述的方法，其特征在于，

所述不同的比率小于6比1或7比1。

12.一种装备，包括：

气态氦的容器；

经液化的氦的容器；

流体连接装置，用于将所述气态氦的容器与所述经液化的氦的容器连接起来；

用于测量气态氦的流速的装置以及用于测量所述经液化的氦的容器中的气态氦的压力的装置。

13.如权利要求12所述的装备，其特征在于，

所述气态氦的容器是杜瓦真空瓶或气筒。

14.如权利要求12或13所述的装备，其特征在于，

所述用于测量流动和压力的装置是通过可编程逻辑控制设备实现的。

15.如上述权利要求12到14之一所述的装备，其特征在于，

所述液氦被馈送到磁体的低温恒温器，所述磁体较佳地是超导磁体。