[发明专利]高耐擦伤性压印材料

说明书

技术领域

本发明涉及压印材料、以及由该材料制作并转印有图案的膜。更详细地说，涉及在转印了图案后也具有高耐擦伤性的压印材料，以及由该材料制作并转印有图案的膜。

背景技术

1995年，现普林斯顿大学的チヨウ教授等提倡纳米压印光刻这样的新的技术(专利文献1)。纳米压印光刻为使具有任意图案的模具与形成有树脂膜的基材接触，对该树脂膜加压，并且使用热或光作为外部刺激，在固化了的该树脂膜上形成目标图案的技术，该纳米压印光刻与以往的半导体器件制造中的光刻等相比，具有能够简便、廉价地进行纳米规模的加工这样的优点。

因此，纳米压印光刻为代替光刻技术而期待适用于半导体器件、光学器件、显示器、存储介质、生物芯片等的制造的技术，因此对于纳米压印光刻所用的光纳米压印光刻用固化性组合物有各种报告(专利文献2、专利文献3)。

然而，迄今为止虽然公开了各种材料作为纳米压印光刻所使用的材料(以下，本说明书中表达为“压印材料”。)，但是可以说还没有在制作凹凸图案等结构物之后进行擦伤性试验，其结果显示保持高耐擦伤性的材料的报告。另一方面，在固体摄像装置、太阳能电池、LED器件、显示器等制品中，有时对其内部或表面所制作的结构物要求耐擦伤性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利第5772905号说明书

专利文献2：日本特开2008－105414号公报

专利文献3：日本特开2008－202022号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是基于上述情况而提出的，其所要解决的课题是，提供在转印图案之后也具有高耐擦伤性的压印材料，并提供由该材料制作并转印有图案的膜。具体而言，本发明的目的是提供对转印图案之后的膜进行钢丝棉擦伤试验时损伤的条数为10条以下的压印材料。

此外，在本说明书中，所形成的图案尺寸不限于纳米级，例如，将包含微米级的情况的光纳米压印技术称为光压印。

用于解决课题的方法

为了提高膜的耐擦伤性，可考虑提高该膜的硬度、或提高该膜的表面的润滑性。本发明人等发现，在具有凹凸结构等图案的膜中，与提高该膜的硬度相比，提高该膜的表面的润滑性更不易形成损伤，结果是通过使用具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有聚合性基团的化合物、和光聚合引发剂，从而完成本发明。

即，本发明涉及压印材料，其包含下述(A)成分和(B)成分，

(A)成分：具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有至少2个聚合性基团的化合物，

(B)成分：光聚合引发剂。

发明的效果

在本发明的压印材料中，由于使用分子内具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有至少2个聚合性基团的化合物，因此由该压印材料制作并转印有图案的膜，即使在其图案上进行钢丝棉擦伤试验，损伤的发生也为10条以下，远少于损伤发生50条以上的以往的膜。

本发明的压印材料由于能够光固化，且在模具的脱模时不会发生图案的部分剥落，因此可获得准确地形成有所期望的图案的膜。因此，能够进行良好的光压印的图案形成。

此外，本发明的压印材料可以在任意的基材上制膜，压印后所形成的转印有图案的膜可以适合用于固体摄像装置、太阳能电池、LED器件、显示器等使用要求耐擦伤性的构件的制品(电子器件)。

此外，本发明的压印材料通过变更上述(A)成分的化合物的种类和含有比例，可以控制固化速度、动态粘度、膜厚。因此，本发明的压印材料能够进行与所制造的器件种类、曝光工艺和烘烤工艺的种类相对应的材料的设计，可以扩大工艺裕量(process margin)，因此可以适合用于光学构件的制造。

具体实施方式

本发明的特征在于，通过使用具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有至少2个聚合性基团的化合物，从而对图案转印后的膜赋予耐擦伤性，即为包含(A)具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有至少2个聚合性基团的化合物和(B)光聚合引发剂的压印材料。此外，除了(A)成分和(B)成分以外，压印材料还可以含有选自作为(A’)成分的具有至少2个聚合性基团且不具有碳原子数2或3的氧化烯单元的化合物、作为(C)成分的表面活性剂和作为(D)成分的溶剂中的1种以上成分。

以下，对各成分进行详细地说明。

＜(A)成分＞