[发明专利]用于可靠地镭射标记物品的方法及设备

权利要求书

1.一种用在金属样品上产生具有所欲性质的标记的方法，其包含：

提供具有镭射能量密度及多个激光脉冲参数的镭射标记系统；

决定与在该金属样品上产生具有该所欲性质的标记相关联的激光脉冲参数；

将该激光脉冲参数储存在该镭射标记系统内；以及

导引该镭射标记系统以利用该所存激光脉冲参数对该金属样品进行标记，通过依位在对于该金属样品为最佳标记范围之内的镭射剂量标记该金属样品，从而产生拥有该所欲性质的标记。

2.如申请专利范围第1项所述的方法，其中该所欲性质包含大小、形状、位置、色彩及光学密度。

3.如申请专利范围第2项所述的方法，其中该所欲色彩为黑色，并且该光学密度在CIE色度图上是等于或小于约L*=20、a*=+/-2及b*=+/-2。

4.如申请专利范围第1项所述的方法，其中该金属样品为不锈钢。

5.如申请专利范围第1项所述的方法，其中该等激光脉冲参数包含脉冲宽度、波长、脉冲数量、脉冲时间形状、脉冲能量密度、照点位置、照点大小、照点形状以及照点高度、咬蚀大小、间距和速度。

6.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该脉冲宽度的范围为自约1微微秒至约1000微微秒。

7.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该波长的范围为自约1.5微米下至约255奈米。

8.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该脉冲数量的范围为自1至约10000个脉冲。

9.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该脉冲时间形状为高斯式。

10.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该脉冲能量密度的范围为自1.0×10-6Joules/cm2至1.0Joules/cm2。

11.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该照点大小的范围为自约10微米至约1000微米。

12.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该照点形状为高斯式或“礼帽”式的其中一者。

13.如申请专利范围第5项所述的方法，其中该照点高度为位于该金属样品的表面处、位于该表面的上方或位于该表面的下方的其中一者。

14.一种镭射标记设备，此者经调适以按所欲性质对金属样品进行标记，该镭射标记系统具有包含镭射能量密度和镭射几何性在内的激光脉冲参数以及一控制器，该调适包含：

该镭射能量密度经调适以位在对于产生具有该所欲性质的标记的最佳标记范围内；

该镭射几何性经调适以在对于产生具有该所欲性质的标记的最佳标记范围内将该镭射能量密度递送至该金属样品；以及

该控制器经调适以储存与该经调适镭射能量密度和镭射几何性相关联的经调适脉冲参数，并且之后导引该镭射标记系统以利用该等经调适脉冲参数来标记该金属样品，通过按该所欲性质以对该金属样品进行标记。

15.如申请专利范围第14项所述的设备，其中该所欲性质包含大小、形状、位置、色彩及光学密度。

16.如申请专利范围第14项所述的设备，其中该镭射能量密度包含脉冲宽度、波长、脉冲数量、脉冲时间形状以及脉冲能量密度。

17.如申请专利范围第14项所述的设备，其中该镭射几何性包含照点位置、照点大小、照点形状以及照点高度、咬蚀大小、间距和速度。

18.如申请专利范围第15项所述的设备，其中该所欲色彩为黑色。

19.如申请专利范围第15项所述的设备，其中该所欲光学密度在CIE色度图上是等于或小于约L*=20、a*=+/-2及b*=+/-2。

20.如申请专利范围第16项所述的设备，其中该脉冲宽度的范围为自约1微微秒至约1000微微秒。

21.如申请专利范围第16项所述的设备，其中该波长的范围为自约1.5微米下至约255奈米。

22.如申请专利范围第16项所述的设备，其中该脉冲数量的范围为自1至约10000个脉冲。

23.如申请专利范围第16项所述的设备，其中该脉冲时间形状为高斯式。