[发明专利]可发光离型膜或保护膜无效

专利信息
申请号: 201180030931.0 申请日: 2011-06-08
公开(公告)号: CN103025836A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: S.西茨曼;G.迪斯特勒 申请(专利权)人: 德国普乐薄膜有限责任两合公司
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国福*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 发光 离型膜 保护膜
【说明书】:

发明涉及一种离型膜或保护膜,其硅氧烷涂层分别由至少为固定间隔的发光硅氧烷涂层区域组成,本发明涉及一种用这种离型膜或保护膜装备初始产品的方法,涉及由所述方法制造的产品,以及另外涉及一种实施上述方法的装置。

离型膜(Trennfolie)广泛地用作胶带、自粘标签或粘合性清洁和卫生制品的可剥离保护膜,以阻止这些单面或双面粘合性产品在存储或加工期间粘连,以及必须相对于例如压敏粘合剂或其它粘合材料的粘合剂具有优良的剥离作用。

硅化离型膜已经在例如EP 1 277 802 A1或EP 0 769 540 A2的现有技术中公开。

为了将具有粘合剂的此类离型膜施加到初始产品,例如清洁或卫生初始产品上,或反之亦然,通常例如通过印刷,以一定间隔在离型膜的硅化表面上施加彩色套准标记(Tastmarke),即彩色标记,这样的标记允许在包括这类离型膜的产品,例如清洁或卫生产品制造期间,离型膜和初始产品彼此之间在为此目的设计的装置中精确定位。

但是,制造具有此类离型膜的产品中的一个缺点为特别是在将具有粘合剂的离型膜组合并与初始产品组合和结合时,在离型膜的硅化表面之外或者其边缘区域施加的优选发光套准标记可能导致粘合剂离型膜和初始产品彼此之间的定位误差,并因此可能产生不可忽略的废料量。另外需要额外的制造步骤,因为套准标记通常必须通过在离型膜的硅氧烷涂层上印刷来施加,由此增加了离型膜的制造时间。此类印刷另外需要使用印刷模具和相应地消耗印刷油墨,因此增加制造成本。

因此需要一种离型膜,其允许更容易地制造具有此类离型膜的产品,例如合适的清洁或卫生产品,借此可以避免上述缺点。

本发明的目的因此为提供一种离型膜或保护膜,其允许图案精确地(rapportgenaue)制造具有这样的离型膜或保护膜的产品,例如清洁或卫生产品,同时除了离型膜或保护膜上的配备有硅氧烷涂层或者施加在硅氧烷涂层上的区域之外,离型膜或保护膜不具有优选以规定间隔施加的发光(套准)标记。

所述目的通过提供一种离型膜或保护膜来实现,该离型膜或保护膜的硅氧烷涂层分别由至少固定(regelm?ssig)间隔的发光硅氧烷涂层区域组成,优选仅由以固定间隔设置的发光硅氧烷涂层区域组成。本发明的离型膜或保护膜的优选特征为除了发光硅氧烷涂层区域以外,其没有其它发光标记,特别是没有发光套准、控制和/或印刷标记。

借助于由此装备的离型膜或保护膜,即使没有套准标记,也可以使用位置精确地控制来不仅实现离型膜或保护膜相对于初始产品,优选清洁或卫生初始产品的精确定位,而且实现对粘合有该离型膜或保护膜的这些产品的进一步加工。使用本发明的离型膜或保护膜另外显著降低制造相应装备的产品期间的废品率。

为了本发明的目的,术语“发光”描述在通过能量输入-例如通过吸收UV辐射-激发之后,至少那些本发明的离型膜或保护膜的硅氧烷涂层区域可以发射电磁辐射,所述电磁辐射在从电子激发态过渡到低能态,例如基态期间产生,其中发射的电磁辐射通常比预先吸收的电磁辐射具有更低的能量,即具有更长的波长。这里发射的电磁辐射可以具有UV辐射波长范围,优选200至380 nm的波长范围,可见光波长范围,优选380至780 nm,特别优选400至500 nm波长范围内,和/或红外辐射波长范围,优选波长范围>780 nm,特别优选780 nm至1 mm内的波长。可以区分为两种发光:即荧光和磷光。这些术语是本领域技术人员已知的。

优选的是本发明的离型膜或保护膜的硅氧烷涂层的各区域为荧光硅氧烷涂层区域。

优选的是为了获得发光性能,本发明的离型膜或保护膜的硅氧烷涂层的各发光区域包括至少一种发光化合物,优选至少一种荧光化合物,特别优选至少一种荧光光学增亮剂。

用作本发明中的发光化合物的化合物优选为特别优选选自以下的无机或有机化合物:无机染料,无机颜料,有机染料,和有机颜料,极特别优选选自各自可以发光,优选发荧光或发磷光,特别优选发荧光的有机染料和有机颜料。

本发明使用的优选合适的发光化合物为至少一种在用UV辐射激发时,优选在用波长范围200至400 nm的UV辐射激发时发光的化合物。

本发明中使用的优选合适的发光化合物为至少一种在用UV辐射激发时发射可见和/或红外电磁辐射的波长范围内的光,特别优选发射可见电磁辐射的波长范围,特别优选400至500 nm波长范围内的光的化合物。

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