[发明专利]复合磁性体及其制造方法有效
申请号: | 201180031448.4 | 申请日: | 2011-06-28 |
公开(公告)号: | CN102971100A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 松谷伸哉;高桥岳史 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | B22F3/24 | 分类号: | B22F3/24;B22F1/00;B22F3/00;C22C38/00;H01F1/24;H01F1/33;H01F41/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 磁性 及其 制造 方法 | ||
1.一种复合磁性体,是通过以下步骤制造出的:混合金属磁性粉末和绝缘性粘结件来制作混合粉的步骤、对所述混合粉进行加压成形来制作成形体的步骤、以及在80℃以上400℃以下的氧化气氛下对所述成形体进行热处理而在所述成形体的表面形成氧化皮膜的步骤,其中,
所述金属磁性粉末由Si、Fe、成分A构成,组成按重量%计:5.5%≤Si≤9.5%、10%≤Si+成分A≤13.5%、其余部分为Fe,成分A由Ni、Al、Ti、Mg之中的至少一种构成。
2.一种复合磁性体的制造方法,包括:
混合金属磁性粉末和绝缘性粘结件来制作混合粉的步骤;
对所述混合粉进行加压成形来制作成形体的步骤;以及
在80℃以上400℃以下的氧化气氛下对所述成形体进行热处理,从而在所述成形体的表面形成氧化皮膜的步骤,
所述金属磁性粉末由Si、Fe、成分A构成,组成按重量%计为:5.5%≤Si≤9.5%、10%≤Si+成分A≤13.5%、其余部分为Fe,成分A由Ni、Al、Ti、Mg之中的至少一种构成。
3.根据权利要求2所述的复合磁性体的制造方法,其中,
所述复合磁性体的饱和磁通密度在0.9T以上。
4.根据权利要求2所述的复合磁性体的制造方法,其中,
所述氧化皮膜的厚度在30nm以上200nm以下。
5.根据权利要求2所述的复合磁性体的制造方法,其中,
所述金属磁性粉末的平均粒径在1μm以上100μm以下。
6.根据权利要求2所述的复合磁性体的制造方法,其中,
所述成分A为Al。
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