[发明专利]用于合成和使用造影剂的组合物、方法和系统

权利要求书

1.一种组合物，其包含含有式(II)的化合物：

或其盐、游离碱或组合，其中：

R¹为烷基、卤烷基、炔基、烯基、杂烷基、环烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂环基或杂芳基烷基，各自任选地经取代；

各R²可相同或不同且为氢或氮保护基；

R³、R⁴、R⁵和R⁶可相同或不同且个别地为氢、C₁-C₆烷基、杂烷基、卤基、-OR⁷、-SR⁷、-N(R⁷)₂或-C(=O)R⁸，各自任选地经取代；

各R⁷可相同或不同且为氢、烷基、杂烷基、环烷基、杂环基、卤烷基、芳基或杂芳基，各自任选地经取代；

各R⁸可相同或不同且为氢、烷基、杂烷基、环烷基、卤烷基、杂环基、芳基、杂芳基、-OH、烷氧基、-NH₂、烷基氨基、-SH或烷基巯基，各自任选地经取代；

m为在1到12之间且包括1和12的整数；和

n为在1到4之间且包括1和4的整数。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述式(II)化合物包含式(IV)结构：

或其盐、游离碱或组合。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中所述式(IV)化合物包含式(III)：

其中为相反阴离子。

4.根据权利要求3所述的组合物，其中为卤离子、磷酸根、硫酸根、三氟乙酸根、甲苯磺酸根、乙酸根、甲酸根、柠檬酸根、抗坏血酸根、甲磺酸根(甲烷磺酸根)或苯甲酸根。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述式(II)化合物包含下式：

6.根据权利要求1或5所述的组合物，其中至少一个R²不为氢。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中所述式(II)化合物包含下式：

或其盐、游离碱或组合。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中所述式(II)化合物包含下式：

或其盐、游离碱或组合。

9.根据权利要求1、2、3、4、6和7中任一权利要求所述的组合物，其中m为3。

10.根据权利要求1、2、3、4、6、7和9中任一权利要求所述的组合物，其中n为1。

11.根据权利要求1、2、3、4、6、7、9和10中任一权利要求所述的组合物，其中R³为Br。

12.根据权利要求1到11中任一权利要求所述的组合物，其中R¹为

(a)C₁-C₆烷基、卤烷基或芳基；

(b)甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基或己基；

(c)卤烷基；

(d)CF₃；

(e)任选地经取代的苯基；或

(f)4-CH₃Ph、2,4,6-(CH₃)₃C₆H₂或C₆H₄X，其中X为卤基。

13.根据权利要求1到4、6、7、和10到12中任一权利要求所述的组合物，其中m为在1到10之间且包括1和10；或在1到8之间且包括1和8；或在1到6之间且包括1和6的整数。

14.根据权利要求1到3所述的组合物，其中R⁴、R⁵和R⁶为氢；且R³为卤基或Br。

15.根据权利要求14所述的组合物，其中所述组合物包含所述式(II)化合物的盐。