[发明专利]功能化微机械器件中所含流体管道的方法、含其的微机械器件及其制造方法

权利要求书

1.一种方法，所述方法用于使设置有流体管道(1b)的微机械器件功能化，所述流体管道(1b)包括外围壁(5)，所述外围壁(5)具有在所述管道外部的表面(2)和内表面(3)，所述内表面(3)限定流体能在其中循环的空间(1b)，所述外围壁至少部分地包括硅层(5a)，其特征在于，所述方法包括下列步骤：

a)提供器件，所述器件的外围壁(5)至少部分地包括至少局部具有大于100nm且小于200nm，有利地具有160～180nm的厚度(e)的硅层(5a)；

c)至少硅烷化所述流体管道的内表面；

d)通过在具有大于100nm且小于200nm，有利地具有160～180nm之间的厚度(e)的点处曝光所述外围壁(5)，而至少在硅烷化的器件的内表面上局部地选择性光去保护。

2.根据权利要求1所述的方法，所述方法包括步骤b)：至少水化所述流体管道的内表面。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，水化步骤包括将所述器件浸入基于醇和金属氢氧化物的溶液中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，硅烷化步骤包括将所述器件浸入含光敏硅烷的溶液中。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，在所述硅烷化步骤中使用的硅烷是光敏羟基胺硅烷。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述曝光通过紫外灯产生。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述紫外灯具有100W的功率和20～25mW/cm²之间，优选24mW/cm²的强度。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，所述步骤d)中的曝光连续地进行。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，连续曝光用穿过宽度能调节的机械孔径的紫外光线产生。

10.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在所述步骤d)中的曝光通过光刻掩模或不透明图案作为定模板产生。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中，所述曝光在覆盖有对所述硅烷的照射波长不透过的图案层的器件上产生。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中，所述曝光通过使用包括能过滤紫外光的微米级图案的石英光刻掩模产生。

13.根据权利要求11和12所述的方法，其中，所述曝光通过与不透明图案掩模组合使用光刻掩模来产生。

14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述方法还包括下列步骤：

e)通过使由将被嫁接的分子和所述流体管道的至少一个表面携带的成对的化学官能团结合，将至少一个分子嫁接到所述流体管道的所述至少一个表面上。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述将被嫁接的分子是选自核酸、脂质和/或蛋白质的大分子。

16.根据权利要求14所述的方法，其中，在所述步骤e)中，所述将被嫁接的分子是低聚核苷酸探针。

17.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括随后是荧光模式读取步骤的杂化步骤。

18.一种用于实施根据权利要求1～17中任一项所述的方法的微机械器件，所述器件设置有包括外围壁(5)的流体管道(1b)，所述外围壁(5)具有在所述管道外部的表面(2)和内表面(3)，所述内表面(3)限定流体(4’)能在其中循环的空间；

其特征在于，所述外围壁至少部分地包括至少局部具有大于100nm且小于200nm，优选具有160～180nm之间的厚度的硅层，并且所述内表面被硅烷化。

19.一种微机械器件，所述微机械器件能通过权利要求1至17中任一项所述的方法得到，其中，硅烷化的内表面在壁的厚度为大于100nm且小于200nm，优选在160～180nm之间的点处至少局部地去保护。

20.根据权利要求19所述的器件，其中，局部去保护的硅烷化的内表面包括嫁接的分子。

21.根据权利要求20所述的器件，其中，所述嫁接的分子是探针。