[发明专利]二氨基苯基烷基脲的新制造方法无效
申请号: | 201180032682.9 | 申请日: | 2011-04-26 |
公开(公告)号: | CN102971288A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 高濑显司;德永健一;后藤裕一 | 申请(专利权)人: | 日产化学工业株式会社 |
主分类号: | C07C273/18 | 分类号: | C07C273/18;C07C275/24;C07B61/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氨基 苯基 烷基 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及二氨基苯基烷基脲的新制造方法,所述二氨基苯基烷基脲是作为用于制作液晶取向膜的聚合物的原料等有用的二胺化合物。本发明制造的二氨基苯基烷基脲的一部分是新化合物,因此,本发明也涉及所述新二胺化合物的制造方法。
背景技术
现在,液晶显示元件中使用的液晶取向膜大都使用聚酰亚胺膜,该聚酰亚胺膜的液晶取向膜采用将作为聚酰亚胺前体的聚酰胺酸的溶液或溶剂可溶性聚酰亚胺的溶液涂布于基板、烧成而得的膜进行摩擦处理等取向处理的方法制成(参照专利文献1、2)。该聚酰胺酸或溶剂可溶性聚酰亚胺通常通过四羧酸二酐等四羧酸衍生物和二胺的缩聚反应来制造。
所述作为聚酰胺酸和聚酰亚胺等的原料的二胺化合物影响由此得到的液晶取向膜的特性,进而影响液晶显示元件的特性,因此较为重要,目前已使用、提议了各种胺化合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开平7-120769号公报
专利文献2:日本专利特开平9-146100号公报
发明内容
发明人曾经在国际公开WO2010/053128中提出过下式(1)所示的二氨基苯基烷基脲作为能够得到摩擦处理时对膜表面的伤痕和磨损减少的机械强度大、液晶取向性良好的液晶取向膜的聚酰胺酸、聚酰亚胺的原料。
[化1]
(式中,R11及R21相互独立地为碳数1~3的亚烷基)
所述二氨基苯基烷基脲中的一部分是本申请前文献未曾记载的新化合物。
另一方面,作为所述二氨基苯基烷基脲的制造方法,考虑通过使硝基苯基烷基胺氢卤酸盐与二(4-硝基取代或无取代苯基)碳酸酯等羰基化合物在反应溶剂中缩合反应制造硝基化合物,在反应溶剂中还原该硝基化合物从而制造目标物。
但是,这样的情况下,想要在四氢呋喃、酮、醇等常用的溶剂中制造二氨基苯基烷基脲时,由于反应速度慢、容积效率低,需要大型装置,另外在某些情况下,因与溶剂反应而产生副产物,生成物着色等,不能得到高纯度的产物。
本发明的目的是提供在通过上述反应制造上述二氨基苯基烷基脲时,反应速度快、容积效率高、副产物少、以高纯度和高收率得到目标物的方法。
另外,本发明的目的是提供以高纯度和高收率得到二氨基苯基烷基脲中迄今未知的新物质的制造方法。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明人为达到上述目的潜心研究,结果发现,通过分别使用特定的有机溶剂作为使起始原料硝基苯基烷基胺氢卤酸盐与特定的羰基化合物缩合反应制造硝基化合物时的反应溶剂、和还原得到的硝基化合物从而制造目标物二氨基苯基脲时的反应溶剂,另外,将上述硝基化合物晶析促进反应时,使用特定的溶剂作为晶析所使用的溶剂,可以达到上述目的。
本发明具有以下技术内容。
[1]下式(4)所示的二氨基苯基烷基脲的制造方法,其特征在于,在碱存在下使下式(1)所示的(硝基苯基)烷基胺氢卤酸盐和下式(2)所示的羰基化合物在酰胺类溶剂中发生缩合反应从而制造下式(3)所示的硝基化合物,接着,使得到的上述硝基化合物在低级醇溶剂中发生还原反应。
[化2]
(式中,R是碳数1~3的亚烷基,Y是可以在任意碳原子上被硝基取代的苯氧基或1-咪唑基)
[2]如上述[1]所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,在经上述缩合反应得到的含有硝基化合物的反应混合物中添加低级醇使其晶析从而分离该硝基化合物。
[3]如上述[1]所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,不在经上述缩合反应得到的含有硝基化合物的反应混合物中添加低级醇使该硝基化合物分离,而是直接使其发生还原反应。
[4]如上述[1]~[3]中任一项所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,将经上述还原反应得到的二氨基苯基烷基脲进行肼处理。
[5]如上述[1]~[4]中任一项所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,上述(硝基苯基)烷基胺氢卤酸盐是2-(4-硝基苯基)乙胺盐酸盐或(4-硝基苯基)甲胺盐酸盐。
[6]如上述[1]~[5]中任一项所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,所述羰基化合物是二(4-硝基取代或无取代苯基)碳酸酯或羰基二咪唑。
[7]如上述[1]~[6]中任一项所述的二氨基苯基烷基脲的制造方法,上述二氨基苯基烷基脲是二(4-氨基苯基甲基)脲。
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