[发明专利]聚合物微过滤器及其制造方法有效
申请号: | 201180033055.7 | 申请日: | 2011-04-01 |
公开(公告)号: | CN103189122B | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | O·V·玛卡罗瓦;C-M·唐;P·T·阿姆斯图茨 | 申请(专利权)人: | 柯丽安缇维微技术公司 |
主分类号: | B01D39/00 | 分类号: | B01D39/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 苏娟 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚合物 过滤器 及其 制造 方法 | ||
1.一种微过滤器,包括:
由环氧基感光干膜形成的聚合物层;以及
分别穿过所述聚合物层延伸的多个孔。
2.根据权利要求1所述的微过滤器,其中,所述聚合物层具有足以过滤液体的强度和柔韧性,以及其中,所述孔的尺寸设定为允许第一种体液细胞通过且阻止第二种体液细胞通过。
3.根据权利要求2所述的微过滤器,其中,所述孔具有约等于所述聚合物层厚度的宽度。
4.根据权利要求1所述的微过滤器,还包括:
在所述聚合物层的至少一个表面上的金属物质涂层。
5.根据权利要求4所述的微过滤器,还包括:
设置在所述涂层上的分析物识别元素。
6.根据权利要求1所述的微过滤器,还包括:
在所述聚合物层的至少一个表面上的分析物识别元素涂层。
7.根据权利要求1所述的微过滤器,其中,所述干膜包括多官能环氧树脂。
8.一种多层微过滤器,包括:
第一聚合物层,其由环氧基感光干膜形成并具有穿过其延伸的第一孔;
第二聚合物层,其由环氧基感光干膜形成并具有穿过其延伸的第二孔,其中,所述第一孔和第二孔至少部分限定穿过所述第一层和第二层延伸的非线性通道。
9.根据权利要求8所述的微过滤器,包括:
第三聚合物层,其由环氧基感光干膜形成并具有穿过其延伸的第三孔,其中,该第三层设置在所述第一聚合物层和第二聚合物层之间,从而所述第一孔、第二孔和第三孔限定穿过所述第一层、第二层和第三层的非线性通道。
10.根据权利要求9所述的微过滤器,其中,所述第一孔和第三孔分别是第一细长槽和第三细长槽,其中,所述第一槽和第三槽基本互相垂直。
11.根据权利要求10所述的微过滤器,其中,所述第二开口是与所述第一槽基本平行的第二细长槽。
12.根据权利要求9所述的微过滤器,其中,所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层分别包括形成多个非线性通道的多个孔,所述非线性通道分别穿过所述第一层、第二层和第三层延伸。
13.根据权利要求8所述的微过滤器,还包括:
在所述第一聚合物层的至少一个表面上的金属物质涂层。
14.根据权利要求13所述的微过滤器,还包括:
设置在所述涂层上的分析物识别元素。
15.根据权利要求8所述的微过滤器,还包括:
在所述第一聚合物层的至少一个表面上的分析物识别元素涂层。
16.一种形成微过滤器的方法,包括:
提供设置在基底上的第一层环氧基感光干膜;
将所述第一层通过掩模暴露在能量下,从而在所述第一层干膜中形成由所述掩模限定的图案;
由所述暴露的第一层干膜形成具有穿过其延伸的多个孔的聚合物层,所述多个孔的分布由所述图案限定;以及
将所述聚合物层从所述基底移除。
17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述的将所述第一层干膜通过掩模暴露在能量下的步骤包括:
使所述第一层干膜通过限定所述图案的光学掩模暴露在紫外线(UV)下。
18.根据权利要求16所述的方法,其中,所述的将所述第一层干膜通过掩模暴露在能量下的步骤包括:
使所述第一层干膜通过限定图案的X射线掩模暴露在X射线下。
19.根据权利要求16所述的方法,其中,所述的由所述暴露的第一层干膜形成所述聚合物层的步骤包括:
使所述暴露的第一层干膜显影。
20.根据权利要求16所述的方法,还包括:
用金属物质对所述聚合物层的至少一个表面涂层。
21.根据权利要求20所述的方法,还包括:
将分析物识别元素附着到所述涂层。
22.根据权利要求16所述的方法,还包括:
用分析物识别元素对所述聚合物层的至少一个表面涂层。
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