[发明专利]聚合物、聚合物膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201180033237.4 申请日: 2011-05-13
公开(公告)号: CN102946981A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 郑世莺;L.M.罗伯逊;M.K.墨菲;J.R.夸 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: B01D71/64 分类号: B01D71/64;B01D67/00;C08L79/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐晶;杨思捷
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.制备聚合材料的方法,所述方法包括:

提供包含至少一种聚合物和至少一种致孔剂的聚合基质;和

使所述至少一种致孔剂在小于或等于1.1 Tg的温度T下降解,其中Tg为所述聚合基质的玻璃化转变温度,所述降解步骤包括将所述聚合基质暴露于选自热降解、化学降解、电降解和辐射降解的至少一种处理,

其中对于气体来说,所述聚合材料的渗透率为所述聚合基质的渗透率的至少1.2倍,且对于气体对来说,所述聚合材料的选择性为所述聚合基质的选择性的至少0.35倍。

2.权利要求1的方法,其中所述聚合基质的聚合物骨架结构没有改变。

3.权利要求1的方法,其中所述气体对选自O2/N2、CO2/CH4、CO2/N2、H2/N2、He/N2、H2/CH4、He/CH4、He/H2、H2/CO2、H2O/至少一种其他气体和He/CO2

4.权利要求1的方法,其中对于气体来说,所述聚合材料的渗透率为所述聚合基质的渗透率的至少5倍,且对于气体对来说,所述聚合材料的选择性为所述聚合基质的选择性的至少0.35倍。

5.权利要求4的方法,其中所述气体对选自O2/N2、CO2/CH4、CO2/N2、H2/N2、He/N2、H2/CH4、He/CH4、He/H2、H2/CO2、H2O/至少一种其他气体和He/CO2

6.制备聚合材料的方法,所述方法包括:

提供包含至少一种聚合物和至少一种致孔剂的聚合基质;和

使所述至少一种致孔剂在小于或等于1.1 Tg的温度T下降解,其中Tg为所述聚合基质的玻璃化转变温度,所述降解步骤包括将所述聚合基质暴露于选自热降解、化学降解、电降解和辐射降解的至少一种处理,

其中所述聚合材料为气体分离膜,其对于选自以下的至少一种气体分离对超越了伯逊(Robeson)上界关系:O2/N2、CO2/CH4、CO2/N2、H2/N2、He/N2、H2/CH4、He/CH4、He/H2、H2/CO2、H2O/至少一种其他气体和He/CO2

7.权利要求1的方法,其中所述至少一种聚合物为选自以下的至少一个成员:聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚苯并咪唑、聚苯并苯并咪唑、聚(芳基醚酮)、聚(芳醚)、芳族聚丙烯酸酯、芳族聚碳酸酯、聚(苯并噁唑)、聚(酰胺-酰亚胺)、聚(噁二唑-酰亚胺)、聚(醚酰亚胺)、聚(芳硫醚)、聚苯并噻唑、聚吡咯酮、聚噁二唑、聚三唑、聚酯酰亚胺、聚(苯基喹喔啉)和聚(苯撑)及其共聚物和组合。

8.权利要求1的方法,其中所述至少一种聚合物具有高于100℃的玻璃化转变温度。

9.权利要求1的方法,其中所述至少一种聚合物具有10,000-400,000的平均分子量。

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