[发明专利]用于制造在触摸面板中使用的透明主体的方法与系统

说明书

技术领域

本公开的实施例涉及用于制造在触摸面板中使用的透明主体的工艺及系统，以及根据这些工艺所制造的透明主体。

背景技术

触摸面板为特定类别的电子可视显示器，触摸面板能检测并定位显示区域内的触摸。通常，触摸面板包括透明主体，透明主体设置于屏幕上并配置来感测触摸。此主体基本上是透明的，使屏幕所发射的可见光谱中的光可传递穿过此主体。至少某些已知的触摸面板包括由屏障及透明导体构成的透明主体，屏障及透明导体依此顺序形成于基板上。此类面板的显示区域上的触摸通常会造成透明主体的一区域中的电容产生可测量的改变。可使用不同的技术来测量电容的改变，因而可决定触摸的位置。

对用于触摸面板的透明主体有某些特定的要求。详言之，一个关键要求是，透明主体需要足够稳定以耐受屏幕上的多点触摸以及恶劣的条件，使触摸屏的可靠度不会随着时间推移而减损。然而，包括在触摸屏中的被认为是坚固的至少某些已知透明主体，因为如厚度、成分及形成透明主体的层结构之故，而干扰光适当传递穿过所述主体。进一步，制造具有高品质的此类稳定透明主体(例如，具均匀且无瑕疵的屏障)是有挑战性的。

因此，需要以一方式形成在触摸面板中使用的高品质透明主体的工艺及设备，使得所述主体可稳定形成于基板上而不会减损可见光谱中的光的适当传递。

发明内容

在一个方面中，提供了一种用于制造在触摸面板中使用的透明主体的工艺。所述工艺包括：在基板上沉积第一透明层堆迭，第一透明层堆迭具有第一介电膜、第二介电膜及第三介电膜。第一及第三介电膜具有低折射率且第二介电膜具有高折射率。所述工艺进一步包括：以一方式沉积透明导电膜，使得第一透明层堆迭及透明导电膜依此顺序设置于基板上。第一介电膜、第二介电膜、第三介电膜或透明导电膜中的至少一个藉由可旋转靶材的溅射而沉积。

在另一方面中，提供了一种用于制造在触摸面板中使用的透明主体的沉积设备。所述设备包括：第一沉积组件，经配置以于基板上沉积第一透明层堆迭，第一透明层堆迭包括第一介电膜、第二介电膜及第三介电膜，第一及第三介电膜具有低折射率且第二介电膜具有高折射率；以及第二沉积组件，经配置以沉积透明导电膜。第一沉积组件及第二沉积组件经安排使得第一透明层堆迭及透明导电膜依此顺序设置于基板上。第一沉积组件或第二沉积组件中的至少一个包括溅射系统，所述溅射系统操作性耦接可旋转靶材。溅射系统经配置以藉由可旋转靶材的溅射来沉积第一介电膜、第二介电膜、第三介电膜或透明导电膜中的至少一个。

根据又一方面，提供了藉由根据本公开的工艺所生产的透明主体。所述透明主体包括：位于基板上的第一透明层堆迭，第一透明层堆迭包括第一介电膜、第二介电膜、第三介电膜；以及透明导电膜。第一透明层堆迭及透明导电膜依此顺序设置于基板上。第一及第三介电膜具有低折射率且第二介电膜具有高折射率。

出乎意料的，相较于在触摸面板中使用的至少某些已知透明主体，根据本公开的实施例所沉积的介电膜的组合具有额外的介电膜，伴随着折射率的特征结合，且其中这些膜中的至少一个藉由可旋转靶材的溅射而沉积，有助于制造高品质透明主体，所制造的透明主体不只产生光的适当传递，也产生随着时间推移的稳定性能。

根据从属权利要求、说明书及附图可清楚了解本发明的进一步方面、优点及特征。

实施例也涉及用以执行所公开的工艺的设备，并包括设备部件用以进行所述的工艺步骤。进一步，实施例也涉及所述设备的运行方法或所述设备的制造方法。这些方法可包括方法步骤，用以执行设备的功能或制造设备的部件。可藉由硬件元件、固件、软件、由适当软件编程的计算机、所述硬件元件、固件、软件及计算机的任何组合或以任何其它方式执行这些方法步骤。

附图说明

包括本发明最佳实施方式的完整且可操作的公开更详细地于说明书中向本领域普通技术人员提出，所述公开包括参照附图，其中：

第1图为根据本文的实施例的在触摸面板中使用的示例性透明主体的示意图；

第2图为根据本文的实施例的用于制造在触摸面板中使用的透明主体的示例性沉积设备的示意图；

第3图为根据本文的实施例的用于制造在触摸面板中使用的透明主体的另一示例性沉积设备的示意图；

第4图为图解在触摸面板中使用的已知透明主体的反射率的作图；

第5图为图解根据本文的实施例的在触摸面板中使用的示例性透明主体的反射率的作图；

第6图为直接比较第4及5图所示的反射率的作图；