[发明专利]含有TiO2的石英玻璃基材及其制造方法无效
申请号: | 201180033896.8 | 申请日: | 2011-07-07 |
公开(公告)号: | CN102985379A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 宫坂顺子;小池章夫 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C03B20/00 | 分类号: | C03B20/00;B29C33/38;C03B8/04;C03C3/06;G02B1/00;H01L21/027 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨海荣;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 tio sub 石英玻璃 基材 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及含有TiO2的石英玻璃基材及其制造方法。
背景技术
作为在各种衬底(例如Si、蓝宝石等单晶衬底,玻璃等非晶衬底)表面形成半导体器件、光波导路、微小光学元件(衍射光栅等)、生物芯片、微反应器等中尺寸为1nm~10μm的细微凹凸图案的方法,光印法一直受到关注,所述光印法中,在形成于衬底表面的光固化性树脂层上,按压表面具有凹凸图案的反转图案(转印图案)的压印模具,并使光固化性树脂固化,由此在衬底表面形成凹凸图案。
对于光印法所使用的压印模具,要求光透射性、耐化学品性、对光照射引起的温度上升的尺寸稳定性。作为压印模具用基材,从光透射性、耐化学品性的观点考虑,经常使用石英玻璃。但是,石英玻璃在室温附近的热膨胀系数高至约500ppb/℃,缺乏尺寸稳定性。因此,提出了含有TiO2的石英玻璃作为热膨胀系数低的石英系玻璃(专利文献1、2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-306674号公报
专利文献2:日本特开2008-303100号公报
发明内容
但是,含有TiO2的石英玻璃衬底的热膨胀系数随TiO2浓度、假想温度及OH等其它成分的浓度而变化。当OH浓度高时,容易产生结构弛豫,因此,在玻璃的外侧和内侧容易产生假想温度差,从而容易形成热膨胀系数的分布。另外,当OH浓度高时,OH浓度的分布也变大,从而容易形成热膨胀系数的分布。
另一方面,当OH浓度低时,不仅不易具有OH浓度的分布,而且结构弛豫得到抑制,因此,不易形成假想温度的分布,从而容易得到具有均匀的热膨胀系数的玻璃。
另外,在OH浓度高的情况下,还产生容易在压印模具中生成裂纹的问题。
因此,考虑降低含有TiO2的石英玻璃基材的OH浓度,但当降低OH浓度时,TiO2被还原,容易生成Ti3+。Ti3+在光印法中吸收所使用的紫外线(365nm),因此,压印模具在波长365nm下的内部透射率降低。另外,作为降低含有TiO2的石英玻璃基材的OH浓度的方法,已知有提高卤素浓度(特别是氟浓度)的方法,但当提高卤素浓度时,存在进一步容易生成Ti3+的问题。
发明内容
本发明提供一种特别适于得到尺寸精度高、硬度充分高、难以生成裂纹、且紫外线(365nm)的透射率充分高的压印模具的含TiO2石英玻璃基材及其制造方法。
本发明的含有TiO2的石英玻璃基材中,TiO2浓度为3~8质量%,OH浓度为50质量ppm以下,波长365nm下每1mm厚度的内部透射率T365为95%以上。
本发明的含有TiO2的石英玻璃基材优选卤素浓度为1000质量ppm以下。
本发明的含有TiO2的石英玻璃基材优选用于压印模具。
本发明的含有TiO2的石英玻璃基材的制造方法,用于制造TiO2浓度为3~8质量%的含有TiO2的石英玻璃基材,其中,
所述方法具有下述工序(a)~(d):
(a)将含有SiO2前体和TiO2前体的玻璃形成原料进行火焰水解或热分解而得到TiO2-SiO2玻璃微粒,并使所述TiO2-SiO2玻璃微粒沉积而得到多孔TiO2-SiO2玻璃体的工序;
(b)在减压下将所述多孔TiO2-SiO2玻璃体加热到1000~1300℃而得到低OH化的多孔TiO2-SiO2玻璃体的工序;
(c)在氧气气氛下或者在含有惰性气体和氧气的气氛下将所述低OH化的多孔TiO2-SiO2玻璃体加热到致密化温度而得到TiO2-SiO2致密体的工序;
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