[发明专利]过滤器清洗方法

权利要求书

1.一种用于过滤器清洗的设备，包括：

要被清洗的过滤器元件表面(12)；和

清洗头(10)；

其特征在于控制器(16)，所述控制器(16)可操作用以关于所述过滤器元件表面(12)沿螺旋扫描轨迹移动所述清洗头(10)，使得所述清洗头(10)关于所述过滤器元件表面(12)的相对路径导致一种轨迹，所述轨迹完全地或部分地覆盖所述过滤器元件表面(12)，并且所述轨迹通过如下方式产生：

以下列运动的任意组合来移动所述过滤器元件表面(12)：a)一个或多个圆周运动或半圆周运动，b)一个或多个线性运动；同时以下列运动的任意组合来移动所述清洗头(10)：c)一个或多个圆周运动或半圆周运动，d)一个或多个线性运动。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述过滤器元件表面(12)包括多个过滤器元件表面(12)的堆叠体。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述过滤器元件表面(12)包括全部位于共同的平面中的多个过滤器元件表面(12)。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述过滤器元件表面(12)以速度ω旋转，并且所述清洗头(10)以较慢的速度旋转。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述过滤器元件表面(12)包括半径a的死区(14)，所述死区(14)不用于过滤。

6.根据权利要求所述1的设备，其中，所述控制器(16)可操作用以关于所述过滤器元件表面(12)沿根据以下方程的螺旋扫描轨迹来移动所述清洗头(10)：

rα=a2+2×(R2+R×a)×[1-cos(α)]---(1)]]>

其中：

r_α＝作为“α”的函数的圆周运动_2的半径；

R＝圆周运动_1的恒定半径；

a＝死表面(14)的半径；

α＝圆周运动_1中的旋转角度；

并且所述螺旋轨迹具有如下定义的半径r_θ：

r_θ＝a+R_E×θ      (2)

其中：

R_E所述清洗头(10)的有效清洗半径；

a＝死表面(14)的半径。