[发明专利]紫外灯系统和用于控制发射的紫外光的方法有效
申请号: | 201180034214.5 | 申请日: | 2011-07-12 |
公开(公告)号: | CN102986302A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·M·博苏克;詹姆斯·库利;爱德华·C·麦吉;詹姆斯·史密斯 | 申请(专利权)人: | 诺信公司 |
主分类号: | H05B41/24 | 分类号: | H05B41/24 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李宝泉;周亚荣 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外 系统 用于 控制 发射 紫外光 方法 | ||
1.一种用于产生紫外光的装置,所述装置包括:
等离子体灯泡;
微波发生器,所述微波发生器可操作地产生微波能量场以激发所述等离子体灯泡发射所述紫外光;
传感器,所述传感器被配置为测量所述紫外光的强度;以及
反射器,所述反射器位于所述等离子体灯泡和所述传感器之间,所述反射器可操作地反射由所述等离子体灯泡产生的所述紫外光的至少部分。
2.根据权利要求1所述的装置,进一步包括:
控制系统,所述控制系统被配置为控制所述紫外光的发射,所述控制系统被配置为接收关于所述紫外光的目标强度,确定来自所述传感器的所述紫外光的所测量的强度,估计所述目标强度是否对应于所测量的强度,并且调节到所述微波发生器的功率以调节所述紫外光的强度。
3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述控制系统被进一步配置为当所述紫外光的所述目标强度高于所述紫外光的所测量的强度时,增加到所述微波发生器的功率。
4.根据权利要求2所述的装置,其中,所述控制系统被进一步配置为当所述紫外光的所述目标强度低于所述紫外光的所测量的强度时,减少到所述微波发生器的功率。
5.根据权利要求2所述的装置,进一步包括:
遮光器,所述遮光器位于所述传感器和所述反射器之间,所述遮光器被配置为将所述传感器的至少部分与紫外光基本上阻挡开。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述控制系统被进一步配置为操作所述遮光器使所述传感器的所述部分至少部分地暴露于所述紫外光。
7.根据权利要求2所述的装置,其中,所述控制系统包括显示器,并且所述控制系统被进一步配置为在所述显示器上指示所述紫外光的所测量的强度。
8.根据权利要求2所述的装置,其中,所述控制系统包括显示器,并且所述控制系统被进一步配置为确定所述等离子体灯泡、所述反射器或所述磁控管中的至少一个的变化并且在所述显示器上指示所述变化。
9.根据权利要求1所述的装置,其中,所述传感器测量穿过所述反射器的厚度的所述紫外光的强度。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,所述反射器包括二向色涂层,并且所述传感器测量穿过所述二向色涂层透射的所述紫外光的强度。
11.根据权利要求9所述的装置,其中,所述反射器包括具有第一厚度的第一部分和第二厚度的第二部分的二向色涂层,并且所述传感器测量穿过所述二向色涂层的所述第二部分透射的所述紫外光的强度。
12.根据权利要求9所述的装置,其中,所述反射器包括二向色涂层和缺少所述二向色涂层的部分,并且所述传感器测量穿过所述反射器的所述部分透射的所述紫外光的强度。
13.根据权利要求1所述的装置,其中,所述反射器包括延伸通过所述反射器的厚度的开口,并且所述传感器被配置为测量穿过所述开口透射的所述紫外光的强度。
14.根据权利要求1所述的装置,进一步包括:
遮光器,所述遮光器位于所述传感器和所述反射器之间,所述遮光器被配置为当关闭时将所述传感器的至少部分与所述紫外光基本上阻挡开。
15.一种控制产生紫外光的灯系统的方法,所述方法包括:
接收关于所述紫外光的目标强度;
使用传感器测量所述紫外光的强度;
将所述目标强度与所测量的强度进行比较;以及
响应于所述比较,调节到微波发生器的功率以调节所述紫外光的强度。
16.根据权利要求15所述的方法,其中,调节所述功率包括:
如果所述紫外光的所述目标强度高于所述紫外光的所测量的强度,则增加到所述微波发生器的功率。
17.根据权利要求15所述的方法,其中,调节所述功率包括:
如果所述紫外光的所述目标强度低于所述紫外光的所测量的强度,则减少到所述微波发生器的功率。
18.根据权利要求15所述的方法,其中,使用所述传感器测量所述紫外光的强度包括:
操作与所述传感器相关联的遮光器以至少部分地使所述传感器的部分暴露;以及
捕捉来自所述传感器的所述紫外光的所测量的强度的指示。
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