[发明专利]模塑聚合材料以赋予所需质地的方法有效

专利信息
申请号: 201180034283.6 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102985600A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: G·J·哈伯德;K·P·帕森斯 申请(专利权)人: 麦克德米德影印有限公司
主分类号: C25D11/12 分类号: C25D11/12;C25D11/18;C25D11/24;B29C33/38;B29C33/42;G02B1/11
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 聚合 材料 赋予 质地 方法
【说明书】:

技术领域

本发明一般地涉及模塑聚合材料以赋予所需质地的方法,并且涉及改良用于制造模具的氧化铝模坯的脱模性质的组合物。

背景技术

聚合模塑材料被广泛地用于制造各种材料,包括例如各种显示装置。经常希望和/或必要对此类显示装置提供抗反射层或质地化表面,以抑制反射光而确保令人满意的可视性。已经建议各种制造此种抗反射层的方法,其包括例如使用真空沉积或喷溅以提供由具有不同折射率的介电体所组成的多层膜。

还建议使用已配置有对应待赋予聚合模塑材料表面的凸起(projection)的凹陷或孔的多孔性氧化铝模坯,以在该聚合模塑材料中制造抗反射层。

用于在该聚合模塑材料表面上形成对应凸起而在该多孔性氧化铝模坯中形成的凹陷或孔,相较于光的波长一般具有极低的周期,且例如可具有约为1/4波长的深度,以充分地衰减可见光范围的反射度。

Masuda等人的第2007/0289874号美国专利公开(其主题通过引用全部并入此处)描述了一种使用其中已赋予孔径连续改变的锥状的阳极氧化的多孔性氧化铝作为模具,通过以大致相同的形成电压来重复阳极氧化和孔径放大处理而制造非反射性聚合物膜的方法。该经阳极处理的多孔性氧化铝表面作为模具或者压模对聚合模塑材料的表面赋予凸起以在其中制造抗反射层。

在进行预定时间的阳极氧化以形成具有所需深度的孔之后,将模具浸泡于合适的酸性溶液中进行孔径放大处理。继而以大约等于先前进行的阳极氧化的形成电压进行阳极氧化,形成较第一阶段孔径小的孔。继而,在重复了阳极氧化及孔径放大处理时,由于以与先前阳极氧化大约相同的形成电压进行阳极氧化,待形成的孔以垂直于膜厚度的方向而形成,因而可形成具有规则锥状的孔。重复此步骤则可获得具有锥状孔的经氧化的多孔性氧化铝基板。

本发明的发明人已发现柱状孔(即相对于锥状孔而言具有笔直侧面的孔)在光学性能上提供了与锥状孔一样好的结果。过去认为锥状孔优于柱状孔的原因之一为其在标准图案转印方法中显著地较易脱模。

据此,本发明部分地涉及用于降低可见光范围反射而在聚合物模塑材料表面上形成的抗反射层(抗反射膜)及其制造方法。另外,本发明一般地涉及用于在聚合物模塑材料(如抗反射层)的表面中形成所需质地的、其中配置了柱状孔的模坯(优选氧化铝的模坯)及其制造方法。

本发明还一般地涉及利用一系列电化学步骤制造其中配置了柱状孔的多孔性氧化铝模具,其中将该多孔性氧化铝模具以脱模涂层处理,以利于从该多孔性氧化铝模具移除聚合物模塑材料。

发明内容

本发明的一个目的为,提供一种能够对聚合模塑材料赋予所需质地的多孔性氧化铝模坯的制造方法。

本发明的一个目的为,提供一种能够对聚合模塑材料赋予抗反射层的多孔性模坯(优选氧化铝,包含铝的模坯)的制造方法。

本发明的另一个目的为提供一种其中配置了柱状孔的多孔性模坯(优选氧化铝模坯)的制造方法。

本发明的另一个目的为提供一种多孔性模坯,优选氧化铝模坯,其上配置有脱模涂层以利于将聚合模塑材料从该多孔性模坯移除。

本发明的一个目的为提供一种由多孔性模坯制造抗反射层的方法,其能够在聚合模塑材料的表面上形成所需的抗反射层。

为此,在一个具体实施方式中,本发明一般地涉及一种使用其中配置了许多柱状孔的模具(优选氧化铝模具)模塑聚合材料以在该聚合材料中制造所需质地的方法,该方法包含步骤:

a)提供具有许多柱状孔分散于其中的多孔性模坯,该许多柱状孔对应于待被赋予聚合模塑材料表面的凸起;

b)将聚合模塑材料配置于透明膜与该多孔性模坯之间;和

c)施加机械压力以将该多孔性模坯轧压至该聚合模塑材料中,

其中被赋予该聚合模塑材料的质地包含对应于该多孔性模坯的柱状孔的凸起。

在另一个优选的具体实施方式中,在将该聚合模塑材料配置于该多孔性模坯与该透明膜之间之前,将脱模剂涂布于该多孔性模坯上。

附图说明

图1显示为使用本发明所制造的膜与涂有相同的感光性树脂但在光滑铬辊表面上铸型以产生平坦表面的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜之间透射%的对比。

图2显示为本发明所制造的具有100nm间隔及180nm深的纳米结构的SEM图。

图3显示为本发明所制造的另一样品与感光性树脂的平坦涂层的透射光谱的对比。

图4显示为本发明所制造的另一样品的SEM图,显示出230nm间隔及380nm深的纳米结构。

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