[发明专利]配位化合物以及含有其的光记录介质有效
申请号: | 201180034670.X | 申请日: | 2011-07-12 |
公开(公告)号: | CN103003243A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 泽田贵弘;折见崇行;冲村尚志;宫崎常昭;森山聪 | 申请(专利权)人: | KH新化株式会社 |
主分类号: | C07D213/85 | 分类号: | C07D213/85;C07D401/12;C07D413/12;C07D413/14;C09B55/00;C09B57/10;G11B7/244 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 金龙河;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 以及 含有 记录 介质 | ||
1.一种配位化合物,其由式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成,
式中,R1以及R4相同或不同,表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R2表示氢原子、羟基、卤原子、硝基、氰基、可具有取代基的氨基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R3表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R5表示式(II)或式(III),
式中,R6表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,
式中,环A表示可具有取代基的杂环,该杂环选自由嘧啶环、四唑环、三唑环、咪唑环、苯并咪唑环、噻唑环、苯并噻唑环、唑环、苯并唑环、吡啶环、哒嗪环、酞嗪环以及喹唑啉环组成的组。
2.如权利要求1所述的配位化合物,其中,R1为氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基或可具有取代基的芳基。
3.如权利要求1或2所述的配位化合物,其中,R2为氰基。
4.如权利要求1~3中任一项所述的配位化合物,其中,R3为可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基或可具有取代基的芳基。
5.如权利要求1~4中任一项所述的配位化合物,其中,R4为氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基或可具有取代基的芳基。
6.如权利要求1~5中任一项所述的配位化合物,其中,R5为式(II)。
7.如权利要求1~5中任一项所述的配位化合物,其中,R5为式(III)。
8.如权利要求7所述的配位化合物,其中,环A为可具有取代基的嘧啶环、可具有取代基的四唑环或可具有取代基的苯并唑环。
9.如权利要求1~8中任一项所述的配位化合物,其中,金属为钴、铑、铱、铝、镓或铁。
10.如权利要求1~8中任一项所述的配位化合物,其中,金属为钴。
11.如权利要求1~10中任一项所述的配位化合物,其中,选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种为通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子。
12.如权利要求11所述的配位化合物,其中,胺为可具有取代基的脂肪族叔胺。
13.如权利要求1~10中任一项所述的配位化合物,其中,选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种为季铵离子。
14.一种光记录介质,其含有权利要求1~13中任一项所述的配位化合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于KH新化株式会社,未经KH新化株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180034670.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:文物裹包带
- 下一篇:喷墨打印直接制版用UV固化墨水及其制备方法和应用