[发明专利]用于移除蚀刻后残余物的水性清洁剂

权利要求书

1.水性清洁组合物，其包含至少一种腐蚀抑制剂、水、任选的至少一种螯合剂、任选的至少一种蚀刻剂、任选的至少一种钝化剂、及任选的至少一种复合剂，其中，该水性清洁组合物适用于自其上具有等离子体蚀刻后残余物的微电子器件清洁该残余物。

2.权利要求1的清洁组合物，其中，该等离子体蚀刻后残余物包含选自由含钛化合物、聚合物性化合物、含铜化合物、含钨化合物、含钴化合物、及其组合所组成的组的残余物。

3.权利要求1或2的清洁组合物，其包含该至少一种蚀刻剂。

4.权利要求3的清洁组合物，其中，该至少一种蚀刻剂包含选自由下列所组成的组的氟化物物质：氢氟酸、氟硼酸、六氟磷酸四甲铵、氟化铵盐、氟化氢铵盐、四氟硼酸四丁铵、四氟硼酸四甲铵、四氟硼酸四乙铵、四氟硼酸四丙铵、四氟硼酸四丁铵、丙二醇/HF、丙二醇/氟化四烷基铵、丙二醇/氟化苄基三甲铵、及其组合。

5.权利要求3的清洁组合物，其中，该至少一种蚀刻剂包含选自由氟化氢铵、四氟硼酸四丁铵、及其组合所组成的组的氟化物。

6.前述权利要求任一项的清洁组合物，其包含该至少一种钝化剂。

7.权利要求6的清洁组合物，其中，该至少一种钝化剂包含选自由硼酸、3-羟基-2-萘甲酸、丙二酸、亚氨基二乙酸、及其混合物所组成的组的物质。

8.权利要求6的清洁组合物，其中，该至少一种钝化剂包含硼酸。

9.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，该至少一种金属腐蚀抑制剂包含选自由下列所组成的组的物质：苯并三唑(BTA)、1,2,4-三唑(TAZ)、5-氨基四唑(ATA)、1-羟基苯并三唑、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、3-氨基-1H-1,2,4-三唑、3,5-二氨基-1,2,4-三唑、甲苯基三唑、5-苯基苯并三唑、5-硝基苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、2-(5-氨基戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯基硫醇-苯并三唑、卤基苯并三唑(卤基=F、Cl、Br、I)、萘并三唑、1H-四唑-5-乙酸、2-巯基苯并噻唑(2-MBT)、1-苯基-2-四唑啉-5-硫酮、2-巯基苯并咪唑(2-MBI)、4-甲基-2-苯基咪唑、2-巯基噻唑啉、2,4-二氨基-6-甲基-1,3,5-三嗪、噻唑、咪唑、苯并咪唑、三嗪、甲基四唑、铋硫醇I、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、1,5-五亚甲基四唑、1-苯基-5-巯基四唑、二氨基甲基三嗪、咪唑啉硫酮、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇、5-氨基-1,3,4-噻二唑-2-硫醇、苯并噻唑、磷酸三甲苯酯、吲唑、腺嘌呤、胞嘧啶、鸟嘌呤、胸嘧啶、磷酸盐抑制剂、胺、吡唑、丙硫醇、硅烷、仲胺、苯并异羟肟酸、杂环氮抑制剂、柠檬酸、抗坏血酸、硫脲、1,1,3,3-四甲基脲、脲、脲衍生物、尿酸、乙基黄原酸钾、甘氨酸、十二烷基膦酸、亚氨基二乙酸、酸、硼酸、丙二酸、琥珀酸、次氮基三乙酸、环丁砜、2,3,5-三甲基吡嗪、2-乙基-3,5-二甲基吡嗪、喹喔啉、乙酰基吡咯、哒嗪、组氨酸、吡嗪、谷胱甘肽(还原型)、半胱氨酸、胱氨酸、噻吩、巯基吡啶N-氧化物、硫胺HCl、四乙基秋兰姆二硫化物、2,5-二巯基-1,3-噻二唑抗坏血酸、抗坏血酸、及其组合。

10.前述权利要求任一项的清洁组合物，其包含该至少一种蚀刻剂及该至少一种钝化剂。

11.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，基于组合物的总重量，水的量在约50重量%至约99重量%的范围内。

12.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，pH在约0至约7的范围内。

13.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，该组合物实质上不含研磨材料、氧化剂、氨、强碱、及偕胺肟复合剂。

14.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，该组合物实质上不含有机溶剂。

15.前述权利要求任一项的清洁组合物，其中，该组合物实质上不含二氧化硅来源。