[发明专利]在多处理单元中使用片上存储器的数据处理无效

专利信息
申请号: 201180035394.9 申请日: 2011-07-19
公开(公告)号: CN103003838A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 维妮特·戈埃尔;托德·马丁;芒热斯·尼娅舒 申请(专利权)人: 超威半导体公司
主分类号: G06T1/20 分类号: G06T1/20
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 处理 单元 使用 存储器 数据处理
【权利要求书】:

1.一种利用多个处理单元在处理器中处理数据元素的方法,其包括:

在每一个所述处理单元中运行具有第一类型线程的第一波阵面,其后是具有第二类型线程的第二波阵面,其中所述第一波阵面读取来自片外共享存储器的所述数据元素的一部分以作为输入并生成第一输出;

将所述第一输出写入到各自的所述处理单元的片上本地存储器;以及

将所述第二波阵面生成的第二输出写入到所述片上本地存储器,其中到所述第二波阵面的输入包括来自所述第一输出的多个第一数据元素。

2.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

利用所述第二波阵面处理所述第一多个数据元素来生成所述第二输出,其中所述第二输出中的数据元素的数量明显不同于来自所述第一多个数据元素的数量。

3.如权利要求2所述的方法,进一步包括:

根据权利要求2所述的方法,其中所述第二输出中的数据元素的数量是动态确定的。

4.如权利要求2所述的方法,其中所述第二波阵面包括一个或多个几何着色器线程。

5.如权利要求4所述的方法,其中所述第二输出通过第一输出的几何放大生成。

6.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

在第一处理单元中在所述第二波阵面之后执行第三波阵面,其中该第三波阵面读取来自所述片上本地存储器中的所述第二输出。

7.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

对各自的所述处理单元基于至少所述片上本地存储器中的可用存储器来确定要处理的所述数据元素的数量;以及

对各自的所述处理单元基于所确定的所述数量来调整所述第一和第二波阵面的尺寸。

8.如权利要求7所述的方法,其中所述确定包括:

估计所述第一输出的存储器尺寸;

估计所述第二输出的存储器尺寸;以及

利用所估计的所述第一和第二输出的所述存储器尺寸来计算所需的片上存储器的尺寸。

9.如权利要求1所述的方法,其中所述运行包括:

执行所述第一波阵面;

检测所述第一波阵面的完成;以及

继所述检测之后由所述第二波阵面读取所述第一输出。

10.如权利要求9所述的方法,其中所述执行所述第一波阵面包括:

确定所述第一波阵面的各自线程的输出尺寸;以及

将到所述片上本地存储器中的输出偏移量提供给所述第一波阵面的所述各自线程中的每一个。

11.如权利要求9所述的方法,其中所述运行进一步包括:

确定所述第二波阵面的各自线程的输出尺寸;以及

将从所述第一输出中读取的到所述片上本地存储器中的偏移量提供给所述第二波阵面的所述各自线程;以及

将到所述片上本地存储器中的偏移量提供给所述第二波阵面的每一线程以写入所述第二输出的各自部分。

12.如权利要求11所述的方法,其中所述第二波阵面的各自线程的所述输出的尺寸基于预设的几何放大参数。

13.如权利要求1所述的方法,其中所述多个处理单元中的每一个是单指令多数据(SIMD)处理器。

14.如权利要求1所述的方法,其中所述片上本地存储器仅对在相应的各自的所述处理单元执行的线程是能访问的。

15.如权利要求1所述的方法,其中所述第一波阵面和所述第二波阵面分别包括顶点着色器线程和几何着色器线程。

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