[发明专利]含水碱性蚀刻和清洁组合物以及处理硅基材表面的方法

权利要求书

1.一种含水碱性蚀刻和清洁组合物，所述组合物含有：

(A)至少一种季铵氢氧化物；和

(B)至少一种选自以下的组分：

(b1)通式I的水溶性磺酸以及它们的水溶性盐：

(R¹-SO₃^-)_nXⁿ⁺    (I),

(b2)通式II的水溶性膦酸以及它们的水溶性盐：

R-PO₃^2-(Xⁿ⁺)_3-n     (II),

(b3)通式III的水溶性硫酸酯以及它们的水溶性盐：

(RO-SO₃^-)_nXⁿ⁺      (III),

(b4)通式(IV)的水溶性磷酸酯以及它们的水溶性盐：

RO-PO₃^2-(Xⁿ⁺)_3-n     (IV)，和

(b5)通式(V)的水溶性磷酸酯以及它们的水溶性盐：

[(RO)₂PO₂^-]_nXⁿ⁺      (V)；

其中指数n=1或2；X是选自氢、碱金属和碱土金属；R¹是选自具有2-5个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂族结构部分，以及具有4-6个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂环族结构部分；R是选自具有2-5个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂族结构部分，具有4-6个碳原子和至少一个烯属不饱和双键的脂环族结构部分，以及烷基芳基结构部分，其中芳基结构部分是选自苯和萘，烷基结构部分是选自亚甲基、乙烷-二基和丙烷-二基，并且在通式II中的磷原子直接键连至脂族碳原子上，在通式III中的硫原子和在通式IV和V中的磷原子各自经由氧原子键连至脂族碳原子上。

2.根据权利要求1的组合物，其特征在于季铵氢氧化物(A)是选自四甲基氢氧化铵和四乙基氢氧化铵。

3.根据权利要求1或2的组合物，其特征在于R¹是选自乙烯基、丙-1-烯-1-基、丙-2-烯-1-基(烯丙基)和α-甲基-乙烯基，R是选自乙烯基、丙-1-烯-1-基、丙-2-烯-1-基(烯丙基)、α-甲基-乙烯基和苄基。

4.根据权利要求1-3中任一项的组合物，其特征在于所述组合物含有选自以下的至少一种酸(C)：无机矿物酸，以及水溶性羧酸。

5.根据权利要求1-4中任一项的组合物，其特征在于所述组合物含有至少一种碱(D)，其选自含有至少一个氮原子的挥发性的无机碱和有机碱。

6.根据权利要求1-5中任一项的组合物，其特征在于所述组合物含有至少一种氧化剂(E)，其选自水溶性的有机和无机的过氧化物。

7.根据权利要求1-6中任一项的组合物，其特征在于所述组合物含有至少一种金属螯合剂(F)。

8.根据权利要求7的组合物，其特征在于金属螯合剂(F)是选自氨基酸二乙酸酯，羟基氨基酸二乙酸酯，以及它们的盐。

9.根据权利要求1-8中任一项的组合物，其特征在于其pH是8-13。

10.根据权利要求1-9中任一项的含水碱性蚀刻和清洁组合物用于处理硅基材的用途。

11.根据权利要求10的用途，其特征在于硅基材是硅晶片。

12.根据权利要求11的用途，其特征在于硅晶片是用于制造能在暴露于电磁辐射时发电的装置。

13.根据权利要求12的用途，其特征在于所述装置是光电池和太阳能电池。

14.根据权利要求13的用途，其特征在于所述太阳能电池是选择性发射极太阳能电池、金属电极绕通(MWT)太阳能电池和发射极电极绕通(EWT)太阳能电池。

15.根据权利要求12-14中任一项的用途，其特征在于电磁辐射是太阳能辐射。