[发明专利]射频（RF）功率滤波器及含射频功率滤波器的等离子体处理系统

权利要求书

1.一种用于过滤从等离子体处理系统中的至少静电卡盘（ESC）所传送的射频（RF）功率的滤波器，所述等离子体处理系统包括配置在所述ESC的第一部分的至少第一加热元件，所述等离子体处理系统进一步包括至少功率源，所述滤波器包括：

第一核心构件；

第一多个电容器，所述第一多个电容器包括至少第一电容器和第二电容器；以及

第一电缆，其缠绕并沿着所述第一核心构件的至少第一部分缠绕以形成具有第一组电感系数的至少第一组电感器，所述第一电缆包括至少第一多个导线，所述第一多个导线包括至少第一导线和第二导线，所述第一导线与所述第二导线接触，所述第一导线的至少一部分与所述第二导线的至少一部分扭结在一起，所述第一导线的第一端与所述第一加热元件相连，所述第一导线的第二端与所述第一电容器相连并且与所述功率源相连，所述第二导线的第一端与所述第一加热元件相连，所述第二导线的第二端与所述第二电容器相连并与所述功率源相连。

2.如权利要求1所述的滤波器，其中

所述等离子体处理系统进一步包括配置在所述ESC的第二部分的至少第二加热元件，

所述第一多个电容器进一步包括至少第三电容器和第四电容器，

所述第一电缆的所述第一多个导线进一步包括至少第三导线和第四导线，所述第三导线的第一端与所述第二加热元件相连，所述第三导线的第二端与所述第三电容器相连并与所述功率源相连，所述第四导线的第一端与所述第二加热元件相连，所述第四导线的第二端与所述第四电容器相连并与所述功率源相连，并且

所述第一导线的所述一部分、所述第二导线的所述一部分、所述第三导线的至少一部分、所述第四导线的至少一部分扭结在一起。

3.如权利要求1所述的滤波器，其中所述第一导线是经涂覆的磁导线。

4.如权利要求1所述的滤波器，其中所述第一核心构件包括至少凹槽结构，所述第一电缆的至少一部分被配置在所述凹槽结构的内部。

5.如权利要求4所述的滤波器，其中所述凹槽结构包括至少多个凹槽部分，所述凹槽结构具有在所述多个凹槽部分的邻近的凹槽部分之间的不同的间距，使得所述第一电缆的第一部分形成具有第一子集电感系数的第一子集电感器，并且所述第一电缆的第二部分形成具有第二子集电感系数的第二子集电感器，所述第二子集电感系数不同于所述第一子集电感系数。

6.如权利要求1所述的滤波器，其中：

所述第一电缆的第一部分缠绕并且沿着所述第一核心构件的第一部分缠绕从而形成具有第一子集电感系数的第一子集电感器；

所述第一电缆的第二部分缠绕并且沿着所述第一核心构件的第二部分缠绕从而形成具有第二子集电感系数的第二子集电感器，所述第二子集电感系数不同于所述第一子集电感系数，并且

在所述第一电缆的所述第一部分的邻近的电缆部分之间的间距不同于所述第一电缆的所述第二部分的邻近的电缆部分之间的间距。

7.如权利要求1所述的滤波器，其进一步包括第二核心构件，其中

所述第一电缆的第一部分缠绕并且沿着所述第一核心构件的所述至少一部分缠绕从而形成所述第一组电感器，

所述第一电缆的第二部分缠绕并且沿着所述第二核心构件的至少一部分缠绕从而形成具有第二组电感系数的第二组电感器，所述第二组电感系数不同于所述第一组电感系数，并且

在所述第一电缆的所述第一部分的邻近的电缆部分之间的间距不同于所述第一电缆的所述第二部分的邻近的电缆部分之间的间距。

8.如权利要求1所述的滤波器，其进一步包括：

第二多个电容器，所述第二多个电容器包括至少第三电容器和第四电容器；以及

第二电缆，其缠绕并且沿着所述第一核心构件的至少第二部分缠绕从而形成至少第二组电感器，所述第二电缆包括至少第二多个导线，所述第二多个导线包括至少第三导线和第四导线，所述第三导线与第四导线相接触，所述第三导线和所述第四导线扭结在一起，所述第三导线的第一端与所述第一电容器相连并且与所述第一导线的第二端相连，所述第三导线的第二端与所述第三电容器相连并且与所述功率源相连，所述第四导线的第一端与所述第二电容器相连并且与所述第二导线的所述第二端相连，所述第四导线的第二端与所述第四电容器相连并且与所述功率源相连，所述第一导线通过至少所述第三导线与所述功率源相连，所述第二导线通过至少所述第四导线与所述功率源相连。