[发明专利]水处理方法有效
申请号: | 201180039736.4 | 申请日: | 2011-08-18 |
公开(公告)号: | CN103080023A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 戴维·施科泽 | 申请(专利权)人: | 戴维·施科泽 |
主分类号: | C02F9/00 | 分类号: | C02F9/00 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 刘宇峰 |
地址: | 以色*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 方法 | ||
1.一种用于基本上清除在水处理设备中形成的水垢的水处理方法,所述方法包括以下步骤:
(I)接受以水垢形成标准值(S)g/M3作为水垢形成的量,所述水垢形成是发生在水处理工艺设施中,从具有360 ppm总硬度、250ppm碱硬度、pH7.5、25摄氏度的每立方米水中形成水垢,所述水处理工艺设施是在规范化水流量条件下运行;
(II)测量来自水源的水的总硬度(H)ppm、碱硬度(A)ppm、pH值(P)和温度(℃)摄氏度;
(III)计算除垢目标(R),采用公式R=10*S*[l+((H-360)/360)+((A-250)/250)+((P-7.5)/7.5)+((C-25)/25)],其中,所述设施的尺寸是与在规范化水流量条件的运行成比例的;以及
(IV)在水流入所述的水处理工艺设施之前,基本上清除来自水源的每立方米的所述水的R水垢量。
2.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述接受中,所述水垢形成标准值(S)是0.2 g/M3;所述计算中,所述水处理工艺设施是反渗透工艺设施,所述规范化水流量条件是水以1.5米每秒的流速通过1米长、4英寸直径的渗透压分离管。
3.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述接受中,所述水垢形成标准值(S)是0.3 g/M3;所述计算中,水处理工艺设施是一种水冷却工艺设施,所述规范化水流量条件是1.5米每秒的水流速、300吨的制冷量,具有150 M3/小时循环,以获得5摄氏度温差。
4.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述接受中,所述水垢形成的标准值(S)是0.5 g/M3;所述计算中,所述水处理工艺设施是水加热工艺设施,所述规范化水流量条件是对于60摄氏度的热温度输入,1.5米每秒的水流速,300,000 千卡/kg的热量。
5.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述测量中,总硬度的测量是溶解钙的测量。
6.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述测量中,碱硬度的测量是测量溶解碳酸盐的测量。
7.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量是从每立方米的水的R/2至5R的水垢量。
8.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量是清除大于0.1%但小于10%的溶解水垢。
9.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于,所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量的步骤包括:采用活性氯清除一些生物活性材料,而代替清除功能上等同的部分R水垢。
10.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量的步骤包括:清除溶解金属,而代替清除功能上等同的部分R水垢。
11.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量的步骤是通过电解方法来处理。
12.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于:所述基本上清除来自水源的每立方米的水的R水垢量的步骤是包括电解方法。
13.一种用于基本上清除在水处理工艺设施中形成的水垢的水处理设备,所述设备包括:水流通导管,在所述水流入所述的水处理工艺设施之前,至少一个活性电化学改变元件从每立方米水中清除R水垢量,以致R=10*S*[l+((H-360)/360)+((A-250)/250)+((P-7.5)/7.5)+((C-25)/25)],且??(S)g/M3是在水处理工艺设施中形成的水垢量,如果它被直接接受为水垢形成标准值,所述水垢形成是从具有360 ppm总硬度、250ppm碱硬度、pH7.5、25摄氏度的每立方米水中形成水垢;所述水处理工艺设施是在规范化水流量条件下运行,以致对于进入所述管道的水,其各个物理性质,总硬度(H)ppm、碱硬度(A)ppm、pH值(P)和温度(℃)摄氏度是基本上等同于实际值。
14.一种水处理方法,基本上如前面所描述和图示,其特征在于:仅在每批预定量的水进入到商业水流通处理工艺设施之前,从水量中清除大于0.1%但小于10%的溶解水垢量,从而基本上清除在水处理工艺设施中形成的水垢。
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