[发明专利]成像光学系统

权利要求书

1.一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12；39；43），

具有多个反射镜（M1-M4、M1-M6），将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13），

具有至少为0.3的像侧数值孔径，

具有大于0.40的瞳遮蔽，

其特征在于像场尺寸至少为1mm x10mm。

2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于所述多个反射镜正好包含四个反射镜（M1-M4）。

3.如权利要求1或2所述的成像光学系统，其特征在于所述物场（4）与所述像场（13）之间的缩小成像比例至少为4x。

4.如权利要求1至3中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于所述像场（13）上的波前误差至多为100mλrms。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于具有至少一个中间像平面（40）。

6.一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12；43），

具有正好四个反射镜，将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13），

具有至少为0.3的像侧数值孔径，

具有至少为1mm x 10mm的像场尺寸，

具有至多为100mλrms的波前误差。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于所述反射镜（M1-M4；M1-M6）中的至少一个的反射表面被构造为自由形状面。

8.如权利要求1至6中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于所有所述反射镜（M1-M4；M1-M6）的反射表面被构造为旋转对称面。

9.一种光学系统，

具有根据权利要求1至8中的任一项所述的成像光学系统（12；39；43），

具有照明光学系统（6；22；28；36），将EUV光源（2）的照明光（3）传输至所述物场（4）。

10.如权利要求9所述的光学系统，其特征在于使用具有以下部分的反射镜（M1）：在所述物场（4）与所述像场（3）之间的光束路径中引导成像光（3）的成像反射镜部分、以及在所述光源（2）与所述物场（4）之间的光束路径中引导照明光（3）的照明反射镜部分（20）。

11.如权利要求9或10所述的光学系统，其特征在于被构造为使得能够在所述物场（4）中布置透射所述照明光（3）的掩模母版（8）。

12.一种投射曝光系统（1），具有

根据权利要求9至11中的任一项所述的光学系统，

EUV光源（2），

支撑掩模母版的掩模母版支撑件（8a），

支撑晶片（15）的晶片支撑件（15a）。

13.如权利要求12所述的投射曝光系统，其特征在于所述掩模母版支撑件（29a）被构造为接收透射所述照明光（3）的掩模母版（8）。

14.一种用于制造结构组件的方法，包含以下方法步骤：

提供掩模母版（8）及晶片（15），

借助于根据权利要求12或13的投射曝光系统（1），将所述掩模母版（8）上的结构投射至所述晶片（15）的光感层上；以及

在所述晶片（15）上产生微结构或纳米结构。

15.一种根据权利要求14所述的方法制造的结构组件。