[发明专利]近场平版印刷掩模及其制造

权利要求书

1.用于形成纳米图案的滚筒光掩模的方法，包括：

在底版基底上形成底版图案，其中所述底版图案包括大小范围为从约1纳米至约100微米的形貌；

在透明滚筒的表面上形成弹性体材料层；

将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层。

2.权利要求1所述的方法，其中所述底版基底是平的刚性基底。

3.权利要求1所述的方法，其中所述底版基底由柔性材料制造。

4.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括“凹版印刷-至-滚筒”纳米压印平版印刷、以标准接触或近场配置的光学平版印刷、结合-分离或贴花转印平版印刷、微接触印刷、纳米转印印刷和扫描束干涉平版印刷。

5.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括在使用所述底版作为平版印刷掩模的平版印刷过程期间连续旋转所述滚筒。

6.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括或“步进-和-旋转”模式，其中平版印刷在滚筒的一个部分上一次完成，随后是平版印刷过程之间的旋转步进。

7.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括“印版-至-滚筒”构造中的纳米压印平版印刷技术。

8.权利要求7所述的方法，其中所述纳米压印平版印刷技术包括使所述滚筒与具有凸版印刷轮廓的纳米结构基底底版接触，以将所述凸版印刷轮廓压印入所述滚筒表面上的所述弹性体材料中。

9.权利要求8所述的方法，进一步包括将所述滚筒表面上的所述弹性体材料的压印部分固化。

10.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括使用接触式光学平版印刷。

11.权利要求1所述的方法，其中将所述底版图案从所述底版转印至在所述滚筒表面上的所述弹性体材料层包括使用结合-分离平版印刷技术。

12.权利要求11所述的方法，其中所述结合-分离平版印刷技术包括形成所述底版图案，其形成在基底上的金属层中，在所述基底上具有沉积或生长的氧化物层；通过暴露于等离子体、UV、臭氧或电晕放电激活所述弹性体和所述氧化物层；使所述激活的氧化物层和激活的弹性体的暴露部分接触，以使它们结合在一起，而所述氧化物层的涂覆金属的部分不结合；和使所述滚筒旋转以将所述弹性体的结合部分从所述滚筒拉开。

13.权利要求1所述的方法，其中所述图案包括大小范围为从约10纳米至约1微米的形貌。

14.权利要求1所述的方法，其中所述图案包括大小范围为从约50纳米至约500纳米的形貌。

15.用于形成纳米图案的滚筒光掩模的方法，包括：

在弹性体基底上形成图案，其中所述图案包括大小范围为从约1纳米至约100微米的形貌；

将该形成图案的弹性体基底层压至所述滚筒的表面。

16.权利要求15所述的方法，其中所述形成纳米图案的弹性体被制成比所述滚筒的周长稍长，从而当附连至所述滚筒时，所述膜在其本身末端稍微交叠。

17.权利要求15所述的方法，进一步包括用所述图案填充所述滚筒上所述弹性体膜末端之间的接缝。

18.权利要求15所述的方法，其中所述弹性体膜用薄的金属涂层涂覆并且所述纳米结构图案在所述金属涂层中形成，其中所述弹性体附连至所述滚筒，从而所述弹性体在所述滚筒和在所述金属涂层中形成的所述纳米结构图案之间，由此所述光掩模是等离子体掩模。

19.权利要求15所述的方法，其中所述弹性体膜包括两层或更多层。

20.权利要求19所述的方法，其中所述两层或更多层包括相对厚和软的第一层以及相对薄和硬的第二层，其中在所述第一层和第二层之间所述第一层被层压至所述滚筒的表面，从而所述第一层在所述滚筒的表面和所述第二层之间，其中所述纳米结构图案在所述第二层中形成。