[发明专利]光学效应结构有效

专利信息
申请号: 201180040847.7 申请日: 2011-06-27
公开(公告)号: CN103038676B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 安德鲁·理查德·帕克 申请(专利权)人: 安德鲁·理查德·帕克
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B5/02;C09D5/36;C09D7/12;B05D5/06
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 刘培培,黎艳
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 效应 结构
【权利要求书】:

1.一种光学涂层结构,该光学涂层结构应用于物体表面,以(ⅰ)赋予物体所需颜色或(ⅱ)亚光效果,所述光学涂层结构包括多个散射结构,该多个散射结构至少在高度和宽度尺寸上为亚微米级,并以非周期方式排列。

2.根据权利要求1所述的光学涂层结构,其特征在于,所述散射结构是被引入到所述光学涂层结构的基底层的轮廓元件。

3.根据权利要求2所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件包括凸起状曲面。

4.根据权利要求2或3所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件包括具有凸起状曲边的、不同长度的棒。

5.根据权利要求2、3或4所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件包括不同长度的半球形杆。

6.根据权利要求2-5中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件包括具有凸起状弯曲横截面的、大致椭圆形的元件,所述元件具有不同的长度。

7.根据权利要求2-6中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件长度约为1000nm-5000nm,优选1800nm-4500nm。

8.根据权利要求2-7中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件具有的平均基部宽度为50nm-500nm,优选200nm-450nm。

9.根据权利要求2-8中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件的高度约为25nm-250nm,优选75nm-200nm,更优选100nm-170nm。

10.根据前述任意一项权利要求所述的光学涂层结构,其特征在于,所述光学涂层结构包括多层反射体,该多层反射体包括交替堆叠的较高折射率层和较低折射率层。

11.根据权利要求10所述的光学涂层结构,其特征在于,所述轮廓元件包括透明或黑色材料,该材料具有与所述多层反射体的相邻层至少相差0.5的折射率。

12.根据权利要求10或11所述的光学涂层结构,其特征在于,所述光学涂层结构包括应用于所述多层反射体的最上层的覆盖层。

13.根据权利要求10-12中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述多层反射体包括优选选自以下各项的不同电介质材料的交替层:二氧化硅、二氧化钛、硫化锌、氟化镁和五氧化二钽。

14.根据权利要求1-9中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述散射结构沉积在多层反射体的最上层或黑色/彩色着色或染色材料上。

15.根据权利要求14所述的光学涂层结构,其特征在于,所述散射结构是垂直于物体表面延伸的板,所述板具有大致为矩形、三角形或梯形的横截面。

16.根据权利要求15所述的光学涂层结构,其特征在于,所述板的长度为500nm-1500nm,优选约1000nm。

17.根据权利要求15或16所述的光学涂层结构,其特征在于,所述板的平均基部宽度为100nm-200nm,优选约140nm-160nm,更优选平均基部宽度约为150nm。

18.根据权利要求15、16或17所述的光学涂层结构,其特征在于,所述板的高度约为1000nm-500nm,优选约700nm-600nm,更优选高度约为650nm。

19.根据权利要求15-18中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述板由折射率为1.6或更大的透明材料制成。

20.根据权利要求15-19中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述光学涂层结构包括透明覆盖层,所述覆盖层具有的折射率至少比所述板的折射率高或低0.5。

21.根据权利要求14-20中任意一项所述的光学涂层结构,其特征在于,所述散射结构可防止光被以镜面的方式从物体的表面反射。

22.一种应用于物体表面的光学效应结构,所述光学效应结构包括多个散射结构,该多个散射结构被构造为大致垂直于物体的表面延伸的多个壁,所述多个壁按一种图形布置,从而基本防止反射光与物体的表面法线成30°或更大的角度离开物体表面。

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