[发明专利]利用改善的采样的微分相位对比成像有效
申请号: | 201180041580.3 | 申请日: | 2011-08-26 |
公开(公告)号: | CN103079469A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | T·克勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;G01N23/04;G01N23/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 改善 采样 微分 相位 对比 成像 | ||
1.一种用于相位对比成像的格栅装置(40),包括:
第一格栅元件G1(24);
第二格栅元件G2(26);并且
其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)中的至少一个包括:具有第一格栅跨度p1、q1的第一面积A1,以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的第二格栅跨度p2、q2的第二面积A2。
2.根据前述权利要求所述的格栅装置,还包括:
X射线探测器元件(6),其包括多个探测器像素元件(8),每个探测器像素元件(8)具有像素面积A;
其中,所述第一面积A1和所述第二面积A2相邻布置;并且
其中,所述第一面积A1和所述第二面积A2的大小对应于单个探测器像素元件(8)的所述像素面积A。
3.根据前述权利要求中的至少一项所述的格栅装置,其中,所述第一面积和所述第二面积具有相似的大小。
4.根据前述权利要求中的至少一项所述的格栅装置,其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)中的至少一个包括针对每个像素元件的:具有所述第一格栅跨度p1、q1的所述第一面积,以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的所述第二格栅跨度p2、q2的所述第二面积。
5.一种用于相位对比成像的设备(38),包括:
X射线源(4);以及
根据权利要求1至4中的一项所述的格栅装置(40);
其中,待成像的对象(14)能够被布置在所述X射线源(4)与所述X射线探测器元件(6)之间;
其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)能够被布置在所述X射线源(4)与所述X射线探测器元件(6)之间;
其中,所述X射线源(4)、所述第一格栅元件(24)、所述第二格栅元件(26)和所述X射线探测器元件(6)操作地耦合以用于所述对象(14)的相位对比图像的采集。
6.根据前述权利要求所述的设备,
其中,所述X射线源(4)适于发射具有限定波长的设计能量水平的X射线辐射(20);
其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)被间隔开距离d;
其中,距离d对应于所述限定波长的所述第一格栅跨度p1和所述第二格栅跨度p2中的一个的分数Talbot距离。
7.根据前述权利要求所述的设备,
其中,所述距离d对应于针对所述第一格栅跨度p1和所述第二格栅跨度p2两者的分数Talbot距离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180041580.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。