[发明专利]利用改善的采样的微分相位对比成像有效

专利信息
申请号: 201180041580.3 申请日: 2011-08-26
公开(公告)号: CN103079469A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: T·克勒 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;G01N23/04;G01N23/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 利用 改善 采样 微分 相位 对比 成像
【权利要求书】:

1.一种用于相位对比成像的格栅装置(40),包括:

第一格栅元件G1(24);

第二格栅元件G2(26);并且

其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)中的至少一个包括:具有第一格栅跨度p1、q1的第一面积A1,以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的第二格栅跨度p2、q2的第二面积A2

2.根据前述权利要求所述的格栅装置,还包括:

X射线探测器元件(6),其包括多个探测器像素元件(8),每个探测器像素元件(8)具有像素面积A;

其中,所述第一面积A1和所述第二面积A2相邻布置;并且

其中,所述第一面积A1和所述第二面积A2的大小对应于单个探测器像素元件(8)的所述像素面积A。

3.根据前述权利要求中的至少一项所述的格栅装置,其中,所述第一面积和所述第二面积具有相似的大小。

4.根据前述权利要求中的至少一项所述的格栅装置,其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)中的至少一个包括针对每个像素元件的:具有所述第一格栅跨度p1、q1的所述第一面积,以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的所述第二格栅跨度p2、q2的所述第二面积。

5.一种用于相位对比成像的设备(38),包括:

X射线源(4);以及

根据权利要求1至4中的一项所述的格栅装置(40);

其中,待成像的对象(14)能够被布置在所述X射线源(4)与所述X射线探测器元件(6)之间;

其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)能够被布置在所述X射线源(4)与所述X射线探测器元件(6)之间;

其中,所述X射线源(4)、所述第一格栅元件(24)、所述第二格栅元件(26)和所述X射线探测器元件(6)操作地耦合以用于所述对象(14)的相位对比图像的采集。

6.根据前述权利要求所述的设备,

其中,所述X射线源(4)适于发射具有限定波长的设计能量水平的X射线辐射(20);

其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)被间隔开距离d;

其中,距离d对应于所述限定波长的所述第一格栅跨度p1和所述第二格栅跨度p2中的一个的分数Talbot距离。

7.根据前述权利要求所述的设备,

其中,所述距离d对应于针对所述第一格栅跨度p1和所述第二格栅跨度p2两者的分数Talbot距离。

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