[发明专利]高温炉、尖晶石陶瓷的用途及进行样品T(O)C测量的方法无效
申请号: | 201180041738.7 | 申请日: | 2011-08-26 |
公开(公告)号: | CN103080683A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 克里斯蒂安·霍伊克罗特;鲁道夫·科鲁特泽尔;彼得·卡武利茨 | 申请(专利权)人: | 朗盛德国有限责任公司 |
主分类号: | F27B17/02 | 分类号: | F27B17/02;G01N33/18 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张英;刘书芝 |
地址: | 德国莱*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高温 尖晶石 陶瓷 用途 进行 样品 测量 方法 | ||
1.一种用于样品T(O)C测量的高温炉,具有
一个限定了汽化空间的炉壳,并具有一个用于逐滴引入样品的样品开口,
其特征在于
该炉壳在朝向该汽化空间的内侧内衬有一种尖晶石陶瓷,并具有至少一个用于引入一种冲洗液的冲洗开口。
2.根据权利要求1所述的高温炉,其特征在于,该冲洗开口连接到用于引入作为冲洗液的气溶胶雾的至少一个喷雾喷嘴,其中该至少一个喷雾喷嘴具有一个方向基本水平取向的入口。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷包含选自增塑剂、陶瓷纤维和另外的无机填充剂中的至少一种添加剂。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷具有不连续的晶粒尺寸分布。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷有具有尺寸在≤10μm范围内的孔。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷具有的开口孔隙率在从按体积计≥10%至按体积计≤30%的范围内。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷作为一个基本上等静压成型的零件生产或由等离子体涂覆过程生产。
8.根据权利要求7所述的高温炉,其特征在于,该尖晶石陶瓷具有不同的组成和/或晶粒尺寸分布的各种层。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的高温炉,其特征在于,选自由三维体组成的组中的结构元件被安装在炉壳的内部。
10.用于内衬高温炉的汽化空间的尖晶石陶瓷,特别是如权利要求1至9中任一项所述的尖晶石陶瓷用于样品T(O)C测量的用途。
11.一种用于进行样品T(O)C测量的方法,该方法包括以下步骤:
提供一个高温炉,特别是如权利要求1至9中任一项所述的高温炉,其具有一个内衬有一种尖晶石陶瓷的汽化空间,
将该汽化空间加热到操作温度,
将一种样品引入到该汽化空间中,
在该汽化空间中汽化和/或氧化该样品,
测量形成的CO2的量,
在基本上操作温度下将一种冲洗液引入到该汽化空间中,以便从在该汽化空间内重结晶的样品除去无机盐。
12.根据权利要求11所述的方法,其中该冲洗液作为一种气溶胶雾被喷射到该汽化空间中。
13.根据权利要求11或12所述的方法,其中该汽化空间在除去这些无机盐后基本上在操作温度下被干燥,并且随后将用于T(O)C测量另一个样品引入到该汽化空间中。
14.根据权利要求11至13中任一项所述的方法,其中将操作温度To设置为500℃≤To≤2000℃,特别是800℃≤To≤1700℃,优选1000℃≤To≤1500℃,并且特别优选1200℃≤To≤1300℃。
15.根据权利要求11至14中任一项所述的方法,其中引入该样品之后并且引入冲洗液直接之后,立即将相同的操作温度设置为目标参数。
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