[发明专利]装置和方法

权利要求书

1.一种根据原子层沉积方法的原理通过使基体（2）的表面（4）与至少第一起始材料（A）和第二起始材料（B）交替发生表面反应来处理所述基体（2）的所述表面（4）的装置，其特征在于，所述装置包括一个或多个源（6,7,8），所述一个或多个源（6,7,8）用于将第一起始材料（A）局部地供给至所述基体（2）的所述表面（4），并且所述源（6,7,8）定位在气氛（1）中，所述气氛（1）包括第二起始材料（B）。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）包括一个或多个起始材料区域（10,11,12），所述第一起始材料（A）经由所述起始材料区域局部地供给至所述基体（2）的所述表面（4）。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）能够相对于所述基体（2）在所述基体（2）的所述表面（4）上运动或在所述表面附近运动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（7,8）能够相对于所述基体（2）的所述表面（4）转动。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述源（7,8）包括能够旋转的起始材料供给构件（3,5），所述起始材料供给构件包括用于将所述第一起始材料（A）供给至所述基体（2）的所述表面（4）的一个或多个起始材料区域（11,12）。

6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，所述起始材料供给构件（3）能够围绕第一旋转轴线（15）转动，并且能够经由所述起始材料区域（11）大致沿着所述第一旋转轴线（15）的方向供给所述第一起始材料（A）。

7.如权利要求5所述的装置，其特征在于，所述起始材料供给构件（5）能够围绕第二旋转轴线（17）转动，并且能够经由所述起始材料区域（12）相对于所述第二旋转轴线（17）大致横向地、径向地或垂直地供给所述第一起始材料（A）。

8.如权利要求1至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述基体（3）能够相对于所述源（6,7,8）运动。

9.如权利要求3至8中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）或所述气体供给构件（3,5）能够大致以往复运动的方式运动，所述往复运动依照所述基体（2）的所述表面（4）在所述基体（2）的所述表面（4）上或所述表面（4）附近进行。

10.如权利要求1至9中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）包括至少一个冲洗剂区域（22），用于将至少一个冲洗剂引导至所述基体（2）的所述表面（4），以冲洗所述基体（2）的所述表面（4）。

11.如权利要求1至10中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）包括至少一个抽吸区域（24,31），用于抽出供给至所述基体（2）的所述表面（4）的所述第一起始材料（A）或所述冲洗剂，或用于在所述源（6,7,8）和所述基体（2）的所述表面（4）之间提供真空。

12.如权利要求1至11中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（6,7,8）包括两个或更多个起始材料区域（10），所述起始材料区域通过流动连接至周围的气氛（1）的狭缝或空间彼此分开，用于使所述基体（2）的所述表面（4）在所述起始材料区域（10）之间暴露于所述第二起始材料（B）。

13.如权利要求5至7中任一项所述的装置，其特征在于，所述源（6,8）包括两个或更多个起始材料供给构件（3,5），所述起始材料供给构件通过通向周围的气氛（1）的狭缝或空间彼此分开，用于使所述基体（2）的所述表面（4）在所述起始材料供给构件（3,5）之间暴露于所述第二起始材料（B）。

14.如权利要求1至13中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括两个或更多个源（6,7,8），所述源通过通向周围的气氛（1）的狭缝或空间彼此分开，用于使所述基体（2）的所述表面（4）在所述源（6,7,8）之间暴露于所述第二起始材料（B）。

15.如权利要求1至14中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括沉积室，所述源（6,7,8）定位在所述沉积室中，并且所述气氛（1）设置在所述沉积室中。