[发明专利]处理盒和成像装置

说明书

技术领域

本发明涉及处理盒和成像装置。在本发明中，处理盒指的是通过一体地组装包括图像承载部件的图像承载部件单元和包括显影剂承载部件的显影单元而制备的盒。

顺便提一句，图像承载部件是电子照相感光部件、静电记录介电部件、磁记录部件等。显影剂承载部件承载显影剂并且用显影剂显影通过适当的方法使形成于图像承载部件上的潜像（静电潜像、势像、磁潜像等）显影。

成像装置在记录材料（介质）上形成图像。成像装置的例子可以包括电子照相成像装置。成像装置的主组件指的是排除处理盒之外的成像装置部分。

背景技术

在使用电子照相成像过程的常规成像装置中，采用这样一种处理盒类型，其中感光鼓和作用于感光鼓的处理装置一体地组装到能够可拆卸地安装到成像装置的主组件的盒中。

作为处理盒，这样一种处理盒是众所周知的，其中用于保持感光鼓和清洁装置等的图像承载部件单元和用于保持作为显影剂承载部件的压力件的显影单元由连接部件连接。在该处理盒中，显影单元通过使用连接部件作为旋转运动的轴线（轴）相对于图像承载部件单元被可旋转地支撑并且通过其自身重量或驱策部件（例如弹簧）朝着图像承载部件单元被促动。显影单元中的显影辊能够以一定的压力接触图像承载部件单元中的感光鼓，使得成像装置可以稳定地形成图像。

然而，在这样的处理盒中，由于零部件公差等的影响，用于连接图像承载部件单元和显影单元的连接部件的位置或连接部件接合在其中的孔的位置在一些情况下偏离设计期间的目标尺寸（在下文中被称为基准尺寸）。当连接部件等的位置偏离时，图像承载部件单元和显影单元之间的连接受到影响并且因此存在显影辊施加到感光鼓上的压力也相对于设计值波动的可能性。

由于该原因，在常规处理盒中，如日本特开专利申请（JP-A）Hei08-339149和Hei09-050224中所述，采取这样的对策，即，使将与连接部件接合的孔成形为长形孔。因此，即使在连接部件等的位置偏离基准尺寸的情况下，当连接部件和长形孔彼此接合时长形孔和连接部件之间的接合位置移动，使得可以吸收所导致的位置偏差。因此，显影辊施加于感光鼓的压力得以稳定。

发明内容

本发明提供上述常规结构的进一步改进。

在通过一体地连接显影单元和图像承载部件单元制备的处理盒中，当力从外部施加到处理盒时，在一些情况下显影单元相对于图像承载部件单元运动。在这些情况下，施加到图像承载部件的显影剂承载部件的压力波动。

本发明的主要目的是提供一种能够抑制压力波动的处理盒。

本发明的另一目的是提供一种包括处理盒的成像装置。

根据本发明的方面，提供一种能够可拆卸地安装到成像装置的主组件的处理盒，所述处理盒包括：

（a）图像承载部件单元，所述图像承载部件单元包括可旋转地设置的图像承载部件；

（b）显影单元，所述显影单元包括用于承载显影剂的显影剂承载部件；

（c）轴，所述轴相对于所述图像承载部件的轴向在所述处理盒的端部部分处设在所述图像承载部件单元和所述显影单元中的一个中；以及

（d）开口，所述开口在所述端部部分处设在另一个单元中，与所述轴接合以允许所述显影单元相对于所述图像承载部件单元的运动，

其中所述开口限定第一接触部分，在所述处理盒安装到所述主组件的状态下，所述第一接触部分接触所述轴以允许所述显影单元相对于所述图像承载部件单元的旋转运动，并且所述开口限定第二接触部分，所述第二接触部分在相对于由所述第一接触部分从所述轴接收的法向反作用力的方向倾斜的方向上从所述轴接收法向反作用力，并且当在所述处理盒安装到所述主组件并且不接收来自所述主组件的驱动力的状态下所述第二接触部分接触所述轴时，所述第二接触部分使所述显影单元移动，使得所述轴和所述第一接触部分彼此接触。

根据本发明的另一方面，提供一种用于在记录材料上形成图像的成像装置，所述成像装置包括：

处理盒，所述处理盒能够可拆卸地安装到成像装置的主组件，其中所述处理盒包括：

图像承载部件单元，所述图像承载部件单元包括可旋转地设置的图像承载部件；

显影单元，所述显影单元包括用于承载显影剂的显影剂承载部件；

轴，所述轴相对于所述图像承载部件的轴向在所述处理盒的端部部分处设在所述图像承载部件单元和所述显影单元中的一个中；以及

开口，所述开口在所述端部部分处设在另一个单元中，与所述轴接合以允许所述显影单元相对于所述图像承载部件单元的运动，