[发明专利]立体摄像装置及阴影校正方法有效
申请号: | 201180043144.X | 申请日: | 2011-09-15 |
公开(公告)号: | CN103098459B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 仓桥秀和 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H04N5/243 | 分类号: | H04N5/243;H04N5/225;H04N13/02 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 立体 摄像 装置 阴影 校正 方法 | ||
1.一种立体摄像装置,其输出通过对来自单一摄像光学系统的光束进行光瞳分割而具有相位差的多个图像,并能够从所述多个图像还原出具有与所述相位差相对应的视差的立体观看图像,
该立体摄像装置具有:
合成部,其对所述多个图像进行合成,基于由所述多个图像合成而成的图像,输出阴影校正的参考数据;以及
校正部,其通过对所述合成部输出的参考数据和所述多个图像分别进行比较,从而确定所述多个图像各自的阴影校正量,并基于所述确定的阴影校正量,对所述多个图像分别进行阴影校正。
2.根据权利要求1所述的立体摄像装置,其中,
具有缩略部,其对所述多个图像分别进行像素缩略,
所述合成部对通过所述缩略部进行像素缩略而得到的多个图像进行合成,基于由所述多个图像合成而成的图像,输出阴影校正的参考数据,
所述校正部,通过对所述参考数据进行插补以使其与所述多个图像各自的原始尺寸一致,并对所述插补后的参考数据和所述多个图像分别进行比较,从而确定所述多个图像各自的阴影校正量,基于所述确定的阴影校正量对所述多个图像分别进行阴影校正。
3.根据权利要求2所述的立体摄像装置,其中,
具有滤波部,其由低通滤波器对所述参考数据、所述多个图像分别实施滤波并将其输出,
所述校正部通过对所述滤波部输出的参考数据和所述多个图像分别进行比较,从而确定所述多个图像各自的阴影校正量,并基于所述确定的阴影校正量,对所述多个图像分别进行阴影校正。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的立体摄像装置,其具有:
获取部,其获取所述多个图像各自的拍摄时的设定信息;以及
判定部,其基于所述获取部获取的设定信息,判定是否需要所述校正部执行阴影校正,
所述校正部,在所述判定部判定为需要所述校正部执行阴影校正时,对所述多个图像分别进行阴影校正。
5.根据权利要求4所述的立体摄像装置,其中,
所述设定信息包含立体观看图像拍摄模式或平面图像拍摄模式中的任一个拍摄模式的设定信息,
所述判定部在所述拍摄模式的设定信息为平面图像拍摄模式的情况下,判定为需要所述校正部执行阴影校正。
6.根据权利要求5所述的立体摄像装置,其中,
所述判定部在所述拍摄模式的设定信息是立体观看图像拍摄模式的情况下,判定为不需要所述校正部执行阴影校正。
7.根据权利要求5所述的立体摄像装置,其中,
所述设定信息包含光圈的设定信息,
所述判定部在所述光圈的设定信息与规定的光圈值相比为缩小侧的情况下,判定为需要所述校正部执行阴影校正。
8.根据权利要求7所述的立体摄像装置,其中,
所述设定信息包含变焦位置的设定信息,
所述判定部在所述透镜光圈的设定信息与规定的光圈值相比为扩大侧且所述变焦位置的设定信息与规定的变焦位置相比为广角侧的情况下,判定为需要所述校正部执行阴影校正。
9.根据权利要求8所述的立体摄像装置,其中,
具有滤波部,其由低通滤波器对所述参考数据、所述多个图像分别实施滤波并将其输出,
所述判定部在所述透镜光圈的设定信息与规定的光圈值相比为扩大侧且所述变焦位置的设定信息与规定的变焦位置相比为望远侧的情况下,判定为需要所述校正部执行阴影校正,
所述校正部,在所述判定部判定为需要所述校正部执行阴影校正时,对所述滤波部输出的参考数据和所述多个图像分别进行比较,从而确定所述多个图像各自的阴影校正量,并基于所述确定的阴影校正量,对所述多个图像分别进行阴影校正。
10.一种阴影校正方法,其输出通过对来自单一摄像光学系统的光束进行光瞳分割而具有相位差的多个图像,并能够从所述多个图像还原出具有与所述相位差相对应的视差的立体观看图像,
该阴影校正方法具有以下步骤:
对所述多个图像进行合成,基于从所述多个图像合成的图像,输出阴影校正的参考数据的步骤;以及
通过对所述合成部输出的参考数据和所述多个图像分别进行比较,从而确定所述多个图像各自的阴影校正量,并基于所述确定的阴影校正量,对所述多个图像分别进行阴影校正的步骤。
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