[发明专利]吡唑并喹啉化合物

权利要求书

1.一种式(I)的化合物或其盐，

式中，

R¹和R²中的一个为氢、卤素、卤代低级烷基或者各自可以被取代的低级烷基、-O-低级烷基或环烷基，另一个为式(II)的基团，

R³为各自可以被取代的低级烷基、环烷基或饱和杂环，

R⁴、R⁵和R⁶相同或不同，为氢或低级烷基，

R^a和R^b相同或不同，为氢或者各自可以被取代的低级烷基、环烷基、芳基或杂环，或者

R^a和R^b可以与相邻的氮原子成为一体而形成各自可以被取代的单环式含氮杂环或多环式含氮杂环。

2.一种式(I-1)的化合物或其盐，

式中，

R¹¹和R²¹中的一个为氢、卤素或者各自可以被取代的低级烷基、-O-低级烷基或环烷基，另一个为式(II-1)的基团，

R³¹为各自可以被取代的低级烷基、环烷基或饱和杂环，

R⁴¹、R⁵¹和R⁶¹相同或不同，为氢或低级烷基，

R^a1和R^b1相同或不同，为氢或者各自可以被取代的低级烷基、环烷基、芳基或杂环，或者

R^a1和R^b1可以与相邻的氮原子成为一体而形成各自可以被取代的单环式含氮杂环或多环式含氮杂环。

3.如权利要求1所述的化合物或其盐，其中，

R¹和R²中的一个为氢、卤素、卤代低级烷基、低级烷基、-O-低级烷基或低级亚烷基-O-低级烷基，

另一个为式(II)的基团，

R³为低级亚烷基-(可以被卤素或-O-低级烷基取代的环烷基)；低级亚烷基-含氧饱和杂环；可以被卤素或-O-低级烷基取代的环烷基；含氧饱和杂环；或者可以被低级烷基、低级亚烷基-芳基或-CO-低级亚烷基-O-低级烷基取代的单环式含氮饱和杂环，

R⁴和R⁵为氢，

R⁶为氢或低级烷基，

R^a和R^b中的一个为氢，另一个为可以被取代的低级烷基；可以被可被选自G₂组中的基团取代的杂环取代的环烷基；或者可以被低级亚烷基-(可以被选自G₁组中的基团取代的芳基)取代的杂环，或者

R^a和R^b可以与相邻的氮原子成为一体而形成可以被取代的单环式含氮杂环，或者可以形成可以被选自由下列基团组成的组中的基团取代的多环式含氮杂环：卤素；-O-低级烷基；可以被选自G₂组中的基团取代的杂环；低级亚烷基-(可以被选自G₁组中的基团取代的芳基)；低级烷基；以及低级亚烷基-O-低级烷基。

4.如权利要求1所述的化合物或其盐，其中，

R¹为氢、卤代低级烷基、低级烷基或-O-低级烷基，

R²为式(II)的基团，

R³为低级亚烷基-(可以被卤素或-O-低级烷基取代的环烷基)；低级亚烷基-含氧饱和杂环；可以被卤素或-O-低级烷基取代的环烷基；含氧饱和杂环；或者可以被低级烷基、低级亚烷基-芳基或-CO-低级亚烷基-O-低级烷基取代的单环式含氮饱和杂环，

R⁴、R⁵和R⁶为氢，

R^a和R^b与相邻的氮原子成为一体而形成各自可以被取代的单环式含氮杂环。

5.如权利要求4所述的化合物或其盐，其中，

R^a和R^b与相邻的氮原子成为一体而形成的各自可以被取代的单环式含氮杂环为各自可以被取代的哌啶基或哌嗪基。