[发明专利]培养基材有效
| 申请号： | 201180044182.7 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN103119151A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 伊藤亨;多田丰;和田绫 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C12M3/00 | 分类号： | C12M3/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 培养 基材 | ||
1.一种培养基材，其特征在于，在培养基材表面形成多个凹坑部，所述凹坑部形成用于培养被培养物的隔室，彼此接近的所述凹坑部之间的培养基材表面为非平坦面。
2.根据权利要求1所述的培养基材，其特征在于，夹在彼此接近的所述凹坑部之间的所述非平坦面具有堤坝部。
3.根据权利要求1或2所述的培养基材，其特征在于，至少所述凹坑部的内表面通过细胞粘附抑制剂形成覆膜。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的培养基材，其特征在于，所述凹坑部的开口的直径为20μm以上且1500μm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的培养基材，其特征在于，所述凹坑部的深度为10μm以上且1500μm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的培养基材，其特征在于，所述多个凹坑部密集地配置在所述培养基材表面。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的培养基材，其特征在于，在所述培养基材表面的孔形成区域的表面形成多个所述凹坑部。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的培养基材，其特征在于，在所述培养基材表面的孔形成区域的表面形成10个/cm2～10000个/cm2的所述多个凹坑部。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的培养基材，其特征在于，所述凹坑部是通过向所述培养基材表面照射激光而形成的。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的培养基材，其特征在于，所述培养基材的材质包含合成树脂。
11.一种培养容器，其具备权利要求1～10中任一项所述的培养基材。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社，未经旭硝子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180044182.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种脊柱后路微创置钉手术的暴露装置
- 下一篇：自动磨边机机械手装置
