[发明专利]基于多乙烯基硅氧烷低聚物的聚合物分散体及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种聚合物水分散体，包括：

水；和

衍生自至少一种具有Si-O-Si主链和至少一个烷氧基的多乙烯基硅氧烷低聚物和一种或多种另外的单体的聚合物，

其中所述聚合物包括丙烯酸基聚合物、苯乙烯-丙烯酸基共聚物，或苯乙烯-丁二烯基共聚物。

2.权利要求1的分散体，其中所述一种或多种另外的单体包括选自丙烯酸、甲基丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯、丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸乙基己基酯、丙烯腈的单体，及其混合物。

3.权利要求1或2的分散体，其中所述至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物包括多于一个甲氧基。

4.权利要求1-3中任一项的分散体，其中所述至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物包括多于一个乙氧基。

5.权利要求1-4中任一项的分散体，其中所述聚合物衍生自10重量%或更低的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

6.权利要求1-5中任一项的分散体，其中所述聚合物衍生自0.005重量%至5重量%的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

7.权利要求1-6中任一项的分散体，其中所述聚合物衍生自0.01重量%至1重量%的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

8.包括权利要求1-7中任一项的分散体的产品，其中所述产品包括粘合剂、涂料、膜、油漆、填隙剂或密封剂。

9.制备聚合物水分散体的方法，包括：

通过乳液聚合使至少一种具有Si-O-Si主链和至少一个烷氧基的多乙烯基硅氧烷低聚物和一种或多种另外的单体共聚合。

10.制备聚合物水分散体的方法，包括：

使至少一种具有Si-O-Si主链和至少一个烷氧基的多乙烯基硅氧烷低聚物和一种或多种另外的单体共聚合以制备聚合物水分散体，所述聚合物包括丙烯酸基聚合物、苯乙烯-丙烯酸基共聚物，或苯乙烯-丁二烯基共聚物。

11.一种产品，包括：

衍生自至少一种具有Si-O-Si主链和至少一个烷氧基的多乙烯基硅氧烷低聚物和一种或多种另外的单体的聚合物，

其中所述聚合物包括丙烯酸基聚合物、苯乙烯-丙烯酸基共聚物，或苯乙烯-丁二烯基共聚物；

其中所述产品为粘合剂、涂料、膜、油漆、填隙剂或密封剂。

12.权利要求11的产品，还包括一种或多种添加剂。

13.权利要求12的产品，其中所述一种或多种添加剂选自增塑剂、聚结剂、中和剂、分散剂、稳定剂、颜料、填料及其混合物。

14.权利要求12或13的产品，其中所述一种或多种添加剂包括碳酸钙。

15.权利要求11-14中任一项的产品，其中所述一种或多种另外的单体选自丙烯酸、甲基丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯、丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸乙基己基酯、丙烯腈及其混合物。

16.权利要求11-15中任一项的产品，其中所述至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物包括多于一个甲氧基。

17.权利要求11-16中任一项的产品，其中所述至少一种多乙烯基硅氧烷包括多于一个乙氧基。

18.权利要求11-17中任一项的产品，其中所述聚合物衍生自10重量%或更低的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

19.权利要求11-18中任一项的产品，其中所述聚合物衍生自0.005重量%至5重量%的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

20.权利要求11-19中任一项的产品，其中所述聚合物衍生自0.01重量%至1重量%的至少一种多乙烯基硅氧烷低聚物，基于聚合物的干重计。

21.权利要求11-20中任一项的产品，其中粘合剂包括地板粘合剂。