[发明专利]安全元件有效
申请号: | 201180046969.7 | 申请日: | 2011-09-27 |
公开(公告)号: | CN103124641A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | T·博勒;H·赖歇特;M·里歇特;I·茹尔明斯基;M·施尼佩尔 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | B41M3/14 | 分类号: | B41M3/14;B42D15/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘金辉;林柏楠 |
地址: | 德国路*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 安全 元件 | ||
1.一种安全装置,包括:
具有低折射率n低的介质或基材;
具有高折射率n高的波导层,其包含发光材料;以及
在所述波导层表面上或在所述介质或基材与所述波导层之间的界面处或在与所述波导层相距小于500nm,尤其是200nm,非常尤其为50nm的距离处的衍射微结构,
其中所述具有低折射率n低的介质或基材与所述波导层之间的折射率之差为至少0.005,尤其是至少0.01,非常尤其为至少0.1;
所述微结构周期(Λ)为100-1500nm,尤其是100-1000nm,非常尤其为100-500nm;
所述波导层的质量厚度(d)为30-1000nm,尤其是50-400nm,非常尤其为60-200nm;以及
微结构深度(t)为50-1000nm,尤其是80-600nm,非常尤其为100-300nm。
2.根据权利要求1的安全装置,其包括:
a)具有低折射率n低的介质层;
b)在所述具有低折射率n低的介质上的衍射微结构;
c)在所述衍射微结构上的具有高折射率n高的波导层,其包含发光材料;以及任选地
d)具有低折射率n低的介质层;或者
A)具有低折射率n低的介质层;
B)在所述具有低折射率n低的介质上的具有高折射率n高的波导层,其包含发光材料;
C)在所述具有高折射率n高的波导层上的衍射微结构;以及任选地
D)具有低折射率n低的介质层。
3.根据权利要求1或2的安全装置,其中所述具有低折射率n低的介质选自用可模压层,尤其是可模压丙烯酸酯层涂敷的聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯和聚对苯二甲酸乙二醇酯。
4.根据权利要求1-3中任一项的安全装置,其中所述具有高折射率n高的波导层包含基体材料和所述发光材料。
5.根据权利要求4的安全装置,其中所述基体材料选自聚乙烯基咔唑、聚甲基丙烯酸甲酯、UV底漆、氯乙烯和乙酸乙烯酯共聚物以及硝化纤维素。
6.根据权利要求5的安全装置,其中所述发光材料选自金属配合物,例如荧光有机染料,例如以及荧光聚合物,例如(x=0.90,y=0.10);以及取代的苯并[c]吡咯酮染料,例如
7.根据权利要求1-6中任一项的安全装置,其中所述衍射微结构是微结构周期(Λ)为270±30nm的衍射光栅;所述波导层的厚度(d)为140±50nm;并且所述微结构深度(t)为140±30nm。
8.根据权利要求1-7中任一项的安全装置,其中所述衍射微结构由至少两个相互相邻或靠近的分区构成,其中一个分区包括一种槽取向且另一分区包括另一不同的槽取向和/或一个分区包括一种光栅周期且另一分区包括另一不同的光栅周期。
9.根据权利要求8的安全装置,其中所述两个分区包括在所述衍射微结构中的徽标,当辐照所述发光材料时,第一徽标取决于槽的取向显得明亮且第二徽标显得黑暗,且在旋转时第一徽标显得黑暗且第二徽标显得明亮。
10.根据权利要求9的安全装置,其中所述分区具有确定的形状,例如符号、条纹、几何形状、设计、文字、字母数字符、物品或其部分的图像。
11.一种制造根据权利要求1或2的安全装置的方法,包括下列步骤:
-提供具有低折射率n低的介质,
-通过模压在所述具有低折射率n低的介质中形成衍射微结构;
-在所述衍射微结构上沉积包含发光材料的(聚合物)层(具有高折射率n高的波导层);以及任选地
-在所述波导层上沉积具有低折射率n低的介质层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴斯夫欧洲公司,未经巴斯夫欧洲公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180046969.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。