[发明专利]R-T-B类烧结磁体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180047320.7 申请日: 2011-08-05
公开(公告)号: CN103140902A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 小幡彻 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;B22F3/24;C22C28/00;C22C33/02;C22C38/00;H01F1/053;H01F1/08
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 烧结 磁体 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及具有以R2T14B型化合物作为主相的R-T-B类烧结磁体(R为稀土类元素中的至少1种,T为过渡金属元素中的至少一种,必须含有Fe)的制造方法。

背景技术

具有以R2T14B型化合物作为主相的R-T-B类烧结磁体,已知作为在永久磁体中最高性能的磁体,用于硬盘驱动器的音圈马达(VCM)、混合动力车搭载用电动机等的各种电动机和家电制品等。

R-T-B类烧结磁体由于在高温矫顽磁力HcJ(以下,简单记作“HcJ”)降低,而有可能发生不可逆热退磁,为了避免不可逆热退磁,在电动机用等中使用时,要求在高温下也维持高的HcJ

R-T-B类烧结磁体中,已知如果将R2T14B型化合物中的R的一部分取代为重稀土类元素RH(Dy、Tb),则HcJ提高。为了得到高温中高的HcJ,以重稀土类元素RH大量置换R-T-B类烧结磁体的R2T14B型化合物相中的R是有效的。

但是,在R-T-B类烧结磁体中,作为R用重稀土类元素RH取代的轻稀土类元素RL(Nd、Pr)时,HcJ提高,而另一方面,存在剩余磁通量密度Br(以下,简单记作“Br”)降低的问题。另外,由于重稀土类元素RH为稀有资源,希望减少其使用量。

近年来,为了提高R-T-B类烧结磁体的HcJ,提出了如下方法:在烧结后使用蒸镀设备对磁石表面供给Dy、Tb等的重稀土类元素RH,通过使该重稀土类元素RH向磁石内部扩散,抑制Br的降低,并且使HcJ提高。

专利文献1中,如图7所示,公开了如下的方法:在处理室11内,利用由Nb网构成的烧结磁石体保持部件3、扩散源保持部件4和间隔件部件12隔开间隔来配置含有R-T-B类烧结磁石体1和重稀土类元素RH的RH扩散源2,将它们加热到规定温度,由此从RH扩散源2向R-T-B类烧结磁石体1的表面供给重稀土类元素RH,并且使重稀土类元素RH向R-T-B类烧结磁石体1的内部扩散(“蒸镀扩散”)。

专利文献2公开了如下的方法:在处理箱内收纳含有Dy和Tb的至少一种的金属蒸发材料和R-T-B类烧结磁体,在真空气氛加热到规定温度,由此使金属蒸发材料蒸发、附着于R-T-B类烧结磁体,使该附着的Dy和Tb的金属原子在该烧结磁体的表面和/或晶界相中扩散。

专利文献2中,金属蒸发材料和R-T-B类烧结磁体隔着间隔在上下方向交替叠层。该间隔件中,将线材组装为格子状,在其外周缘部具有以大致直角向上方弯曲的的支撑片。通过具有支撑片的间隔件将金属蒸发材料和R-T-B类烧结磁体隔开间隔配置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开WO2007/102391号

专利文献2:日本特开2009-135393号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在专利文献1、2中,利用热处理进行扩散反应,在R-T-B类烧结磁体的主相外壳部形成重稀土类元素RH的浓缩层。此时,重稀土类元素RH从R-T-B类烧结磁体的表面向该R-T-B类烧结磁体的内部扩散,与此同时,上述R-T-B类烧结磁体的内部所含有的以轻稀土类元素RL为主体的液相成分,向上述R-T-B类烧结磁体的表面扩散。这样,通过发生上述重稀土类元素RH从上述R-T-B类烧结磁体的表面向内部扩散和上述轻稀土类元素RL从上述R-T-B类烧结磁体的内部向表面的扩散的相互扩散,在R-T-B类烧结磁体表面形成以轻稀土类元素RL为主体的溶出部分。该部分与支撑R-T-B类烧结磁体的支撑体发生反应。因此,支撑体和R-T-B类烧结磁体发生粘合(以下,记作“熔接”)。

重稀土类元素RH向R-T-B类烧结磁体的供给过多时,多发生如上所述的相互扩散,多发生熔接。因此,为了不使重稀土类元素RH向R-T-B类烧结磁体的供给过多,在专利文献1、2中,在载置R-T-B类烧结磁体的网和RH扩散源(相当于专利文献2的金属蒸发材料)之间以及载置RH扩散源的网和R-T-B类烧结磁体之间配置间隔件以具有空间。

但是,具有上述的空间,存在形成处理大量的R-T-B类烧结磁体时的制约的问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社,未经日立金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180047320.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top