[发明专利]具有基于纳米二氧化硅的涂层和阻挡层的抗反射制品有效
申请号: | 201180047583.8 | 申请日: | 2011-09-30 |
公开(公告)号: | CN103154319A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | T·J·赫伯林克 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | C23C24/08 | 分类号: | C23C24/08;G02B1/11;H01L31/0203;H01L31/0216;H01L31/0236;B82Y30/00;B82Y40/00;G02B5/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 基于 纳米 二氧化硅 涂层 阻挡 反射 制品 | ||
1.一种制品,所述制品包括具有抗反射结构化表面的透明基材和其上包含二氧化硅纳米粒子的多孔网络的烧结涂层,其中所述二氧化硅纳米粒子与相邻的二氧化硅纳米粒子粘结,其中所述结构化基材还包括背衬面,并有湿气阻挡层粘结至所述结构化基材的所述背衬面。
2.根据权利要求1所述的制品,其中所述二氧化硅纳米粒子的多孔网络为三维网络。
3.根据权利要求1或2所述的制品,其中所述烧结涂层相对于透明基材的所述抗反射结构化表面为保形涂层。
4.根据任何前述权利要求所述的制品,其中所述纳米粒子的平均粒径为至多400纳米。
5.根据任何前述权利要求所述的制品,其中所述表面结构具有峰和谷以及平均峰-谷高度,其中所述烧结涂层具有平均厚度,并且其中所述烧结涂层的平均厚度至多为所述平均峰-谷高度的一半。
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