[发明专利]用于向容器施加电磁能的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201180047662.9 申请日: 2011-10-11
公开(公告)号: CN103153814A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 埃亚·托里斯;丹尼尔·塞兰热;丹妮拉·阿兹莫尼;平夏斯·艾森格;阿米特·拉贝尔;艾利泽·格尔巴特;伊加尔·雅里;阿夫纳·李伯曼 申请(专利权)人: 高知有限公司
主分类号: B65D81/34 分类号: B65D81/34;H05B6/64
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 贾媛媛;王漪
地址: 百慕大*** 国省代码: 百慕大群岛;BM
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摘要:
搜索关键词: 用于 容器 施加 磁能 装置 方法
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求在2010年10月12日提交的美国临时申请号61/392,178的权益,该申请的披露内容通过引用以其全部结合于此。 

技术领域

专利申请涉及一种用于施加电磁能的装置和方法,并且更具体地但非唯一地涉及一种用于施加电磁能以加工被置于容器内的物体的装置和方法。例如,本发明涉及施加电磁能以便烹饪和/或制备食品(例如牛排、蛋、汤或酸奶)和/或食品加工。 

发明背景

电磁波一直被用于不同应用中来向物体提供能量。例如,射频(RF)电磁能可以使用磁控管来供应,磁控管典型地被调谐到单一频率以便只在该频率下供应电磁能。采用电磁能的常用装置的一个实例是微波炉。典型的微波炉在2.45GHz的单一频率下供应电磁能。为了增强电磁波的分散,典型的微波炉包括一个金属风扇,该金属风扇通常被布置在炉中的烤架后方,以便扰动电磁辐射的驻波波型并且在炉的腔体内实现更均匀的能量分布。容器内的物体(例如液体等)也可以通过将电磁能传递至位于容器壁上的元件上由此加热容器壁和容器内容物而被加热。 

本披露的几个示例方面的概述

本发明的一些方面可针对一种用于将RF能量施加给容器的设备和方法。容器可以包括被配置成用于容纳或包含有待加热或加工的物体的任何器皿或物体。容器的实例可以包括例如锅、罐、缸、釜、反应器、接收器等。位于此类容器中的物体可以通过使用EM能量被加热或加工。这个物体可以处于液相、气相、固相或其任何组合相。 

通过至少一个辐射元件可以将RF能量施加至该容器。在一些实施例中,该容器可以包括一个外壳体和一个内壳体。该至少一个辐射元件可以与该容器的外壳体是相关联的。可替代地或另外地,该辐射元件可以位于该容器的内壳体的内部。该容器可以被配置成用于容纳静置液体,例如基本上保持在该容器的一部分之内、而不是流动穿过该容器的液体。在一些实施例中,该辐射元件可以通过EM能量可透过或部分可透过的一个屏蔽层与该物体(例如,基于液体的物体)隔离。在一些示例性实施例中,该屏蔽层可以包括该容器的内壳体,并且该(这些)辐射元件可以被安装在该容器的内壳体与外壳体之间的界面中。该容器的外壳体可以具有一个RF传导壁,该传导壁允许至少一些RF辐射穿过、或替代地是由RF辐射基本上不可透过的材料(例如,阻挡所有或几乎所有RF辐射的透射的一种材料)制成。 

本发明的一些方面可以包括一种用于将RF能量施加到物体的设备和方法。该设备可以包括一个外壳体,任选地该外壳体可以是RF能量基本上不可透过的(例如,由RF不可通透的材料制成)。该设备可以进一步包括一个内壳体,该内壳体至少部分地被置于该外壳内,其中该内壳体的至少一部分被配置成用于透射RF能量。该设备可以包括被配置为将RF能量施加给该内壳体之内的能量施加区的至少一个辐射元件。在一些实施例中,该至少一个辐射元件可以位于该内壳体之外、任选地位于该内壳体与该外壳体之间。在一些实施例中,该至少一个辐射元件可以被激活并 且通过该至少一个激活的辐射元件可以将RF能量发射至位于该能量施加区内的物体。 

本方面的一些方面可涉及一种用于通过施加RF能量而加工物体的容器。该容器能够容纳静置液体。该容器可以包括一个外壳体,任选地该外壳体可以是RF能量基本上不可透过的;以及一个布置在该外壳体内并且被适配成用于包含该物体的内壳体。该内壳体可以与该外壳体间隔开并且可以包括RF能量可透过的至少一个部分。该容器可以进一步包括至少一个辐射元件,该至少一个辐射元件位于该外壳体与该内壳体之间的空间内并且被配置成将电磁能施加至该内壳体之内的一个体积。 

在一些实施例中,该容器可以被配置成用于烹饪食品或食物,例如该容器可以包括一个烹饪器具(例如,烹饪容器)。该烹饪容器可以包括一个外壳体和一个内壳体,其中该内壳体可以被适配成用于包含一种可混合的食品;以及被配置成为将电磁能量施加至该内壳体之内的体积中的至少一个辐射元件。该食品容器可以进一步包括一个被配置成用于搅拌该可混合的食品的搅拌器。在一些实施例中,该搅拌器可以被置于或部分地置于该内壳体之内。该烹饪容器可以进一步包括一个处理器,该处理器被配置成用于控制经由该至少一个辐射元件进行的电磁能的施加并且用于控制该搅拌器的工作。 

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