[发明专利]微光刻成像光学系统

权利要求书

1.一种用于微光刻的成像光学系统，具体是投射物镜，包含：光学元件，构造为在成像光束路径中引导具有波长λ的电磁辐射，用于将物场成像到像平面中；以及光瞳，具有坐标(p，q)，该光瞳与所述光学系统的具有坐标(x，y)的像场一起构成具有坐标(x，y，p，q)的扩展的4维光瞳空间，将通过所述光学系统的辐射的波前W(x，y，p，q)限定为该扩展的4维光瞳空间的函数，其中：

-所述光学元件的至少第一光学元件具有非旋转对称表面，该非旋转对称表面相对于每个旋转对称表面具有相应二维表面偏差，该二维表面偏差在其最高峰与其最低谷之间具有至少λ的差异；

-所述非旋转对称表面的子孔径比在所述物场的每一点处与所述光学元件的位于所述成像光束路径中的每一个其它表面在所述物场的相应点处的子孔径比偏差至少0.01；

-所述第一光学元件的表面构造为通过相对于其它光学元件位移所述第一光学元件能够导致所述光学系统的波前变化，该波前变化具有至少两重对称的部分，在所述扩展的4维光瞳空间中，所述波前变化的最大值至少为所述波长λ的1x10^-5。

2.根据权利要求1所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件相对于在所述成像光束路径中布置为与所述第一光学元件相邻的光学元件，具有5cm的最小距离。

3.根据权利要求1或2所述的成像光学系统，其中，所述光学元件的每一个的子孔径比与其它光学元件的相应子孔径比偏差至少0.01。

4.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述光学元件构造为使得所述光学元件中的两个构成的每个组合具有非旋转对称光学元件的光学效应。

5.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述光学系统的所有非旋转对称表面布置在彼此不共轭的平面中。

6.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述光学元件构造为反射镜。

7.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述光学元件构造为用于引导EUV辐射形式的电磁辐射。

8.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述光学元件中的至少三个具有非旋转对称表面。

9.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的位移包含所述第一光学元件的旋转。

10.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的位移包含所述第一光学元件相对于参考轴的旋转及/或倾翻，该参考轴布置为垂直于所述像平面。

11.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，通过至少旋转所述第一光学元件，能够改变所述成像光学系统的像散。

12.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，通过相对于旋转轴旋转所述第一光学元件来实现所述第一光学元件的用于改变所述波前的位移，该旋转轴延伸通过最适合所述非旋转对称表面的球面的中心点。

13.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的位移包含所述第一光学元件的偏移。

14.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的表面的非旋转对称部分具有n重对称，且n的值至少为2。

15.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的表面的非旋转对称部分具有像散形状。

16.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其中，所述第一光学元件的表面具有旋转对称部分，且所述旋转对称部分的幅度小于所述非旋转对称部分的幅度。

17.根据前述权利要求任一项所述的成像光学系统，其包含四至八个具有非旋转对称表面的光学元件。